AR NEWS

Themen im Überblick: 1. Allresist auf den Konferenzen EIPBN 2025 und MNE 2025 // 2. Medusa 84 - AR-N 8400 SiH, ein qualitativ hochwertiger Ersatz für HSQ-basierte Resists // 3. Allresist gründet neue Betriebstätte in Teltow // 4. ZIM-Projekt erfolgreich abgeschlossen: Entwicklung eines Photoresists zur Strukturierung nicht-planarer Objekte

Themen im Überblick: 1. Allresist auf der MNE 2023 in Berlin 2. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ mit besseren Eigenschaften 3. Rubin-Projekt - Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich 4. Neuer Electra 92 erfolgreich eingeführt 5. Farbige und fluoreszierende Resists für optische Anwendungen

Themen im Überblick: 1. Die Ukraine im Krieg: Auch wir tragen Verantwortung 2. Corona und kein Ende? 3. Allresist wieder präsent auf Kongressen 4. Umweltfreundlicher „Grüner“ PMMA-Entwickler 5. Profit-Projekt des Landes Brandenburg QD-LED 6. Allresist pflanzt Bäume

Themen im Überblick: 1. Ministerpräsident Dietmar Woidke besucht Allresist in Corona-Zeiten 2. Länger haltbare und empfindlichere HSQ-Alternative Medusa 82 für die Grauton- Lithographie 3. Medusa für die UV-Lithographie 4. Thermisch strukturierbare Resists

Themen im Überblick: Synthesewoche im neuen Produktionstrakt ; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019 ; Medusa 82 besteht vielfältige Anwendungstests ; Auflösungstest mit dem empfindlichen PAG-Medusa 82 (SX AR-N 8250) ; Einfluss des PEB auf die Empfindlichkeit von Medusa 82 ; Plasmaätzversuche mit Medusa-Strukturen ; Medusa 82 mit einem gezielt geringen Kontrast ; Fünf farbige Negativresists auf einem Glaswafer

Themen im Überblick: 25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung ; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46 ; Neue innovative Produktentwicklungen ; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik ; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben ; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates

Themen im Überblick: Allresist plant erneute Erweiterung ihres Gebäudes im 25. Jahr Ihres Bestehens; Neue Vertriebspartner; Thermisch entwickelbarer Positivresist „Phoenix 81“; Negativ-Photoresist „Atlas 46“ unsere wirkungsvolle Alternative zum SU-8; Positiv CAR-E-Beamresist „EOS 72“ unsere Antwort auf den FEP 171; 25 Jahre Allresist

Themen im Überblick: ; Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2015 und SEMICON Europa vorgestellt: Ein Fall für Zwei – CSAR 62 & Electra 92 ; Espacer-Alternative Electra 92 erfüllt Anwendererwartungen ; Lange Haltbarkeit von Electra 92 ; CSAR-Strukturen auf Glas, ermöglicht durch Electra 92 ; PMMA-Lift-off-Strukturen auf Halbedelsteinsubstraten mittels Electra 92 ; Electra 92 für Anwendungen auf novolakbasierten Resists - Neue Variante SX AR-PC 5000/91.1 für Negativ-CAR AR-N 7700 auf Glas ; PPA-Litho-Projekt: Erste Beispiele für die Anwendung der neuen PPA-Resists ; Allresist wird 23 Jahre alt und verjüngt sich ; Chemnitzer Seminar „Elektronenstrahl-Lithographie“ im Fraunhofer Institut ENAS

Themen im Überblick: Neues bei Allresist: Anbau für höhere Produktionskapazität, Zweitplatzierte Unternehmerin des Landes Brandenburg und errungener Innovationspreis Brandenburg ; Neuer leitfähiger Schutzlack für die E-Beam-Lithographie SX AR-PC 5000/90.2 ; Neuer E-Beamresist SX AR-N 7530/1 für Weißlicht-Applikationen ; AR-P 3540 MIF - ein Resist der mehr kann! (Erfahrungsbericht unserer Partner) ; Allresist auf der Semicon China 2014

Themen im Überblick: 20 Jahre Allresist – eine Entwicklung vom MBO zum Unternehmen der Excellence ; Erfolgreiches Assessment beim Vorortbesuch für den Ludwig-Erhard-Preis ; Projekt VEGAS eingereicht ; Unsere Neuentwicklungen – erste Ergebnisse