AR NEWS

Zweimal jährlich veröffentlichen wir die AR NEWS, um unsere Kunden und Partner regelmäßig über uns zu informieren. Neben der Veröffentlichung auf unserer Homepage bieten wir auch einen E-Mail-Newsletter an.

50. Ausgabe der AR NEWS

15. Oktober 2024

Themen im Überblick: Themen im Überblick: Allresist auf den Konferenzen EIPBN 2024 und MNE 2024 / Weltweites Interesse für Medusa 84 - AR-N 8400 SiH / Tochter Ulrike Schirmer zur Geschäftsführerin berufen / Unsere aktuellen Umweltaktivitäten: Neupflanzung von Bäumen / Keine Preiserhöhung 2025 unserer Preislistenprodukte

49. Ausgabe der AR NEWS

28. April 2024

Themen im Überblick: 1. Allresist auf dem „8th Thermal Probe Workshop“ von Heidelberg Instruments Nano AG 2. Vom PPA-Pulver zum flüssigen Resist: der Phoenix 81 3. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400: Die Markteinführung hat begonnen 4. Unsere aktuellen Umweltaktivitäten: Neupflanzung von Bäumen

48. Ausgabe der AR NEWS

16. Oktober 2023

Themen im Überblick: 1. Allresist auf der MNE 2023 in Berlin 2. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ mit besseren Eigenschaften 3. Rubin-Projekt - Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich 4. Neuer Electra 92 erfolgreich eingeführt 5. Farbige und fluoreszierende Resists für optische Anwendungen

47. Ausgabe der AR NEWS

13. April 2023

Themen im Überblick: 1. Allresist erhielt am 20. Februar bedeutende IHK-Urkunde für vorbildliche CO2-Bilanz bei der Bestimmung ihres CO2-Fußabdrucks auf dem Weg zur Klimaneutralität 2. Allresist wurde am 15. März als „Arbeitgeber der Zukunft“ ausgezeichnet 3. EOS 72, unser neuer hochempfindlicher und alkalistabiler E-Beamresist 4. Neues ZIM-Projekt – Photoresists für konkave und konvexe Oberflächen 5. Allresist wieder auf den Kongressen EIPBN und MNE vertreten

46. Ausgabe der AR NEWS

16. Oktober 2022

Themen im Überblick: 1. 30 Jahre Allresist: Ministerpräsident Woidke würdigt das Unterneh-men 2. Allresist auf EIPBN in New Orleans 3. Electra 92 weiter verbessert - neuer AR-PC 5092 4. Allresist auf MNE in Leuven 5. Rubin-Projekt - Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich 6. Allresist bestimmt den CO2-Fußabdruck

45. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2022

Themen im Überblick: 1. Die Ukraine im Krieg: Auch wir tragen Verantwortung 2. Corona und kein Ende? 3. Allresist wieder präsent auf Kongressen 4. Umweltfreundlicher „Grüner“ PMMA-Entwickler 5. Profit-Projekt des Landes Brandenburg QD-LED 6. Allresist pflanzt Bäume

44. Ausgabe der AR NEWS

14. Oktober 2021

Themen im Überblick: 1. Arbeiten im Zeichen von Corona 2. Effizientere Herstellung von Electra 92 3. RUBIN-Projekt für die optische Sensorik eingelobt 4. EOS 72, ein chemisch verstärkter Positiv-E-Beam Resist 5. Allresist pflanzt Bäume

43. Ausgabe der AR NEWS

9. Juni 2021

Themen im Überblick: 1. Allresist zukunftsfähig 2. Allresist investiert in neue Technik 3. Strukturierbare leitfähige Schichten 4. CSAR 62 – weltweit begehrt

42. Ausgabe der AR NEWS

9. Oktober 2020

Themen im Überblick: 1. Ministerpräsident Dietmar Woidke besucht Allresist in Corona-Zeiten 2. Länger haltbare und empfindlichere HSQ-Alternative Medusa 82 für die Grauton- Lithographie 3. Medusa für die UV-Lithographie 4. Thermisch strukturierbare Resists

41. Ausgabe der AR NEWS

9. Mai 2020

Themen im Überblick: 1. Wie sich Allresist der Corona-Krise stellt 2. Gemeinsam gegen Covid-19 – preiswerte Lieferung von Desinfektionsmitteln 3. Quantum Dots für die Variation der Wellenlängen von LEDs 4. Schwarzlack SX AR-N 8355/7, ein lichtdichter, lithographisch strukturierbarer Resist 5. 27 Jahre – Die Geschichte einer erfolgreichen Zusammenarbeit mit Herrn Preuß vom Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH (CiS, Erfurt)

40. Ausgabe der AR NEWS

22. Oktober 2019

Themen im Überblick: 27 Jahre Allresist – fest auf dem Weltmarkt etabliert ; Allresist erfolgreich auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019 ; Medusa 82 für die E-Beam Grauton-Lithographie ; Resiststrukturen für den Spin-Hall-Effekt

39. Ausgabe der AR NEWS

22. April 2019

Themen im Überblick: Synthesewoche im neuen Produktionstrakt ; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019 ; Medusa 82 besteht vielfältige Anwendungstests ; Auflösungstest mit dem empfindlichen PAG-Medusa 82 (SX AR-N 8250) ; Einfluss des PEB auf die Empfindlichkeit von Medusa 82 ; Plasmaätzversuche mit Medusa-Strukturen ; Medusa 82 mit einem gezielt geringen Kontrast ; Fünf farbige Negativresists auf einem Glaswafer

38. Ausgabe der AR NEWS

22. Oktober 2018

Themen im Überblick: 26 Jahre Allresist - Einweihung des neuen Anbaues zum Firmenjubiläum ; Allresist landet mit Medusa 82 großen Erfolg auf der MNE 2018 ; Weitere Allresist-Highlights auf der MNE ; Atlas 46 für die E-Beam-Lithographie ; Phoenix 81 - der weltweite Vertrieb beginnt ; Nachwuchs bei Allresist – Next Generation

37. Ausgabe der AR NEWS

22. April 2018

Themen im Überblick: Unsere Firmen-Erweiterung wächst ; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2018) und MNE 2018 ; Atlas 46 in mehreren Varianten für einen selektiven Zweilagen-Aufbau ; Fluoreszierende Resists für die Optik und Sensorik mit Atlas 46 S ; Medusa 82 – aus einem Resist werden „steinerne“ Strukturen ; Neuer Schutzlack für KOH-/ HF-Ätzungen – BlackProtect SX AR-PC 5000/41

36. Ausgabe der AR NEWS

22. Oktober 2017

Themen im Überblick: 25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung ; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46 ; Neue innovative Produktentwicklungen ; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik ; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben ; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates

36. Ausgabe der AR News

21. Oktober 2017

Themen im Überblick: 25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung ; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46 ; Neue innovative Produktentwicklungen ; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik ; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben ; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates

35. Ausgabe der AR NEWS

21. September 2017

Themen im Überblick: Allresist plant erneute Gebäude-Erweiterung im 25. Jahr ihres Bestehens ; Neue innovative Produktentwicklungen ; Wissenschaftliche Partnerschaften für die MNE 2017

34. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2017

Themen im Überblick: Allresist plant erneute Erweiterung ihres Gebäudes im 25. Jahr Ihres Bestehens; Neue Vertriebspartner; Thermisch entwickelbarer Positivresist „Phoenix 81“; Negativ-Photoresist „Atlas 46“ unsere wirkungsvolle Alternative zum SU-8; Positiv CAR-E-Beamresist „EOS 72“ unsere Antwort auf den FEP 171; 25 Jahre Allresist

33. Ausgabe der AR NEWS

16. Oktober 2016

Themen im Überblick: 24. Jubiläum Allresist; Allresist Silbersponsor auf der MNE 2016 in Wien; Neues von CSAR 62 und Electra 92; Optimierte T-Gate-Strukturen mit Dreilagensystemen aus PMMA, Copolymer 617 und CSAR 62; Neue Entwickler für PMMAcoMA (AR-P 617, 50 kV); Neues Labor und neuer Rotationsverdampfer für die Produktion

32. Ausgabe der AR News

21. April 2016

Themen im Überblick: ; Allresist im 24. Jahr mit Innovationen weiter im Aufschwung ; Polyphthalaldehyd (PPA) als E-Beamresist ; Leitfähige Polymerelektroden für Stapelaktoren – smart3 ; Polyphotonics – neue Resists für optische Komponenten bzw. Anwendungen in der Mikroelektronik

31. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2015

Themen im Überblick: ; Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2015 und SEMICON Europa vorgestellt: Ein Fall für Zwei – CSAR 62 & Electra 92 ; Espacer-Alternative Electra 92 erfüllt Anwendererwartungen ; Lange Haltbarkeit von Electra 92 ; CSAR-Strukturen auf Glas, ermöglicht durch Electra 92 ; PMMA-Lift-off-Strukturen auf Halbedelsteinsubstraten mittels Electra 92 ; Electra 92 für Anwendungen auf novolakbasierten Resists - Neue Variante SX AR-PC 5000/91.1 für Negativ-CAR AR-N 7700 auf Glas ; PPA-Litho-Projekt: Erste Beispiele für die Anwendung der neuen PPA-Resists ; Allresist wird 23 Jahre alt und verjüngt sich ; Chemnitzer Seminar „Elektronenstrahl-Lithographie“ im Fraunhofer Institut ENAS

30. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2015

Themen im Überblick: Investition in die Sonne - Errichtung einer Photovoltaikanlage auf Allresist-Dach ; Hochempfindlicher Negativresist für die Laser-Direktbelichtung ; PPA-Litho-Projekt: Resists für neue Lithographie-Anwendungen ; Weitere CSAR 62-Anwendungen – hoch präzise Rechteckstrukturen ; Neue Ergebnisse mit Electra 92

29. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2014

Themen im Überblick: Einweihungsfeier unseres Anbaus pünktlich zum 22. Allresist-Jubiläum ; Neue Anwendungsergebnisse mit dem CSAR 62 (dickere Schichten) ; Eurostar Projekt PPA-Litho startet am 1. November ; Neuentwicklungen von Allresist

28. Ausgabe der AR NEWS

21. Mai 2014

Themen im Überblick: Neues bei Allresist: Anbau für höhere Produktionskapazität, Zweitplatzierte Unternehmerin des Landes Brandenburg und errungener Innovationspreis Brandenburg ; Neuer leitfähiger Schutzlack für die E-Beam-Lithographie SX AR-PC 5000/90.2 ; Neuer E-Beamresist SX AR-N 7530/1 für Weißlicht-Applikationen ; AR-P 3540 MIF - ein Resist der mehr kann! (Erfahrungsbericht unserer Partner) ; Allresist auf der Semicon China 2014

27. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2013

Themen im Überblick: Erfolgreiches Jahr 2013 für Allresist ; Gründung des German Innovation Center in Changzhou ; Erfolgreiche Einführung des CSAR 62 ; Maskblank-Herstellung in Vorbereitung ; Thermostabile Negativ-Resists ; Leitfähiger Lack für die E-Beam-Lithographie ; Allresist auf der Semicon Europe 2013

26. Ausgabe der AR NEWS

21. Februar 2013

Themen im Überblick: Anerkennung für den Ludwig-Erhard-Preisträger Allresist ; CSAR 62 - eine künftige Alternative für den ZEP-Resist ; NIR-Lack in der Entwicklung – erste Erfolge

25. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2012

Themen im Überblick: 20 Jahre Allresist – eine Entwicklung vom MBO zum Unternehmen der Excellence ; Erfolgreiches Assessment beim Vorortbesuch für den Ludwig-Erhard-Preis ; Projekt VEGAS eingereicht ; Unsere Neuentwicklungen – erste Ergebnisse

24. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2012

Themen im Überblick: Allresist ist jetzt Mitarbeiterchampions und bewirbt sich um den Ludwig-Erhard-Preis ; Ergebnisse des neuen E-Beamresist AR-N 7520; NIR-Lack in der Entwicklung – erste Erfolge ; Unsere Neuentwicklungen – erste Ergebnisse

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