Alle 19 /AR 300-12 0 /AR 300-26 0 /AR 300-35 0 /AR 300-44 0 /AR 300-46 0 /AR 300-47 0 /AR 300-475 0 /AR 300-72 0 /AR 300-73 0 /AR 300-76 0 /AR 300-80 0 /AR 600-01 0 /AR 600-02 0 /AR 600-07 0 /AR 600-09 0 /AR 600-50 0 /AR 600-51 0 /AR 600-546 0 /AR 600-548 0 /AR 600-549 0 /AR 600-55 0 /AR 600-56 0 /AR 600-60 0 /AR 600-61 0 /AR 600-70 0 /AR 600-71 0 /AR-BR 5400 0 /AR-N 2210 0 /AR-N 2220 0 /AR-N 2230 0 /AR-N 4200 0 /AR-N 4300 0 /AR-N 4400 0 /AR-N 4400-25 0 /AR-N 4400-50 0 /AR-N 4450 0 /AR-N 4600 0 /AR-N 7400 0 /AR-N 7500 0 /AR-N 7520 0 /AR-N 7520 neu 0 /AR-N 7700 0 /AR-N 7720 0 /AR-P 1200 0 /AR-P 3100 0 /AR-P 3200 0 /AR-P 3500 0 /AR-P 3500T 0 /AR-P 3700 0 /AR-P 3800 0 /AR-P 5300 0 /AR-P 5900 0 /AR-P 617 0 /AR-P 6200 0 /AR-P 631-671 0 /AR-P 632-672 0 /AR-P 639-679 0 /AR-P 6500 0 /AR-P 8100 0 /AR-PC 500 0 /AR-PC 5000 0 /AR-U 4000 0 /Bottomresist 0 /E-Beam Resist 0 /Entwickler 0 /Haftvermittler 0 /Negativ 8 /Negativ 0 /Photoresist 0 /Positiv 11 /Positiv 0 /Produkte 0 /Produktgruppen 0 /Prozesschemikalien 0 /Remover 0 /Schutzresist 0 /Stopper 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 7530/1 0 /SX AR-N 7730/1 0 /SX AR-N 8200-8250 0 /SX AR-P 3500/6 0 /SX AR-P 3500/8 0 /SX AR-P 3740/4 0 /SX AR-PC 5000/41 0 /SX AR-PC 5000/80.2 0 /SX AR-PC 5000/82.7 0 /Verdünner 0 /X AR-N 7700/30 0 /X AR-P 3220/7 0 /X AR-P 5900/4 0
Photoresist AR-N 2210
Einsatzfertiger Sprühresist, Bedeckung senkrechter Gräben, Schichtdicke 0,5-10 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-N 2220
Einsatzfertiger Sprühresist zur Ätzung 54°-Böschungen, Schichtdicke 0,5-10 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-N 4340
Hochempfindlicher, chemisch verstärkter Resist (CAR), thermostabil bis 220 °C (Nachbehandlung)
Photoresist AR-N 4400-05 (CAR 44)
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, leichtes Removing, hohe Schichten bis 10 µm
Photoresist AR-N 4400-10 (CAR 44)
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, leichtes Removing, hohe Schichten bis 20 µm
Photoresist AR-N 4400-25 (CAR 44)
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, leichtes Removing, hohe Schichten bis 50 µm
Photoresist AR-N 4400-50 (CAR 44)
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, leichtes Removing, hohe Schichten bis 100 µm
Photoresist AR-N 4600-Serie (Atlas 46)
Dicke Negativresists für Galvanik, Mikrosystemtechnik und LIGA < 20 μm
Photoresist AR-P 3110
Haftverstärkter Maskenresist, für kritische Glas-/ Chromflächen, Schichtdicke 1,0 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3120
Haftverstärkter Maskenresist, für kritische Glas-/ Chromflächen, Schichtdicke 0,6 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3170
Haftverstärkter Maskenresist, für kritische Glas-/ Chromflächen, Schichtdicke 0,1 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3250
Dicker Resist für Galvanik und Mikrosystemtechnik, hohe Kantensteilheit, Schichtdicken bis 20 µm
Photoresist AR-P 3510
Empfindlicher Resist großer Prozessbreite, universell einsetzbar, Schichtdicke 2,0 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3510 T
Empfindlicher Resist großer Prozessbreite, TMAH-Entwickler 0,26n, Schichtdicke 2,0 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3540
Empfindlicher Resist großer Prozessbreite, universell einsetzbar, Schichtdicke 1,4 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3540 T
Empfindlicher Resist großer Prozessbreite, TMAH-Entwickler 0,26n, Schichtdicke 1,4 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3740
Resist für Sub-µm-Strukturen bis 0,5 µm, Schichtdicke 1,4 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 5350
Empfindlicher Resist zur Herstellung von Aufdampfmustern (Lift-off), Schichtdicke 1,0 µm (4.000 rpm)
Photoresist SX AR-P 3500/8
Experimentalmuster: Positiv-Photoresist für Hochtemperaturanwendungen bis 300°C
Übersicht Photoresists
Unser Qualitätsversprechen
Seit 1992 bieten wir unseren Kunden eine hohe Qualität unserer Produkte bei moderaten Preisen. Durch unsere Forschungsabteilung und unser Ohr am Kunden können wir schnell auf die Bedürfnisse des Marktes eingehen und stetig neue Produktinnovationen anbieten.
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