Alle 12 /AR 300-12 0 /AR 300-26 0 /AR 300-35 0 /AR 300-44 0 /AR 300-46 0 /AR 300-47 0 /AR 300-475 0 /AR 300-72 0 /AR 300-73 0 /AR 300-76 0 /AR 300-80 0 /AR 600-01 0 /AR 600-02 0 /AR 600-07 0 /AR 600-09 0 /AR 600-50 0 /AR 600-51 0 /AR 600-546 0 /AR 600-548 0 /AR 600-549 0 /AR 600-55 0 /AR 600-56 0 /AR 600-60 0 /AR 600-61 0 /AR 600-70 0 /AR 600-71 0 /AR-BR 5400 0 /AR-N 2210 0 /AR-N 2220 0 /AR-N 2230 0 /AR-N 4200 0 /AR-N 4300 0 /AR-N 4400 0 /AR-N 4400-25 0 /AR-N 4400-50 0 /AR-N 4450 0 /AR-N 4600 0 /AR-N 7400 0 /AR-N 7500 0 /AR-N 7520 0 /AR-N 7520 neu 0 /AR-N 7700 0 /AR-N 7720 0 /AR-P 1200 0 /AR-P 3100 0 /AR-P 3200 0 /AR-P 3500 0 /AR-P 3500T 0 /AR-P 3700 0 /AR-P 3800 0 /AR-P 5300 0 /AR-P 5900 0 /AR-P 617 0 /AR-P 6200 0 /AR-P 631-671 0 /AR-P 632-672 0 /AR-P 639-679 0 /AR-P 6500 0 /AR-P 8100 0 /AR-PC 500 0 /AR-PC 5000 0 /AR-U 4000 0 /Bottomresist 0 /E-Beam Resist 0 /Entwickler 0 /Haftvermittler 0 /Negativ 5 /Negativ 0 /Photoresist 0 /Positiv 7 /Positiv 0 /Produkte 0 /Produktgruppen 0 /Prozesschemikalien 0 /Remover 0 /Schutzresist 0 /Stopper 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 7530/1 0 /SX AR-N 7730/1 0 /SX AR-N 8200-8250 0 /SX AR-N 8400 0 /SX AR-P 3500/6 0 /SX AR-P 3500/8 0 /SX AR-P 3740/4 0 /SX AR-PC 5000/41 0 /SX AR-PC 5000/80.2 0 /SX AR-PC 5000/82.7 0 /Verdünner 0 /X AR 300-74/1 0 /X AR 600-60/1 0 /X AR-N 7700/30 0 /X AR-P 3220/7 0 /X AR-P 5900/4 0
Photoresist AR-N 2200 Serie
Einsatzfertige negative Sprühlacke für verschiedene Anwendungen
Photoresist AR-N 4340
Hochempfindlicher Negativresist für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen
Photoresist AR-N 4400 Serie
Dicke und sehr dicke Negativresists für Galvanik, Mikrosystemtechnik und LIGA
Photoresist AR-N 4600-Serie (Atlas 46)
Dicke Negativresists für Galvanik, Mikrosystemtechnik und LIGA < 20 μm
Photoresist AR-P 1200 Serie
Einsatzfertige positive Sprühresists für verschiedene Anwendungen
Photoresist AR-P 3100 Serie
Haftverstärkter Maskenresist, für kritische Glas-/ Chromflächen, Schichtdicke 1,0 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 3200 Serie
Dicke Positivlacke für Galvanik und Mikrosystemtechnik
Photoresist AR-P 3500 (T) Serie
Empfindliche Standardpositivresists für die Herstellung integrierter Schaltkreise
Photoresist AR-P 3740
Resist für Sub-µm-Strukturen bis 0,5 µm, Schichtdicke 1,4 µm (4.000 rpm)
Photoresist AR-P 5300 Serie
Empfindliche Resists für die Herstellung von Aufdampfmustern mittels Lift-off
Photoresist SX AR-N 4340/7
Negativ-Photoresist für Ein- und Zwei-Lagensysteme, thermostabil bis 300 °C
Photoresist SX AR-P 3500/8
Experimentalmuster: Positiv-Photoresist für Hochtemperaturanwendungen bis 300°C
Übersicht Photoresists
Unser Qualitätsversprechen
Seit 1992 bieten wir unseren Kunden eine hohe Qualität unserer Produkte bei moderaten Preisen. Durch unsere Forschungsabteilung und unser Ohr am Kunden können wir schnell auf die Bedürfnisse des Marktes eingehen und stetig neue Produktinnovationen anbieten.
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