Alle 24 /AR 300-12 0 /AR 300-26 0 /AR 300-35 0 /AR 300-44 0 /AR 300-46 0 /AR 300-47 0 /AR 300-475 0 /AR 300-72 0 /AR 300-73 0 /AR 300-76 0 /AR 300-80 0 /AR 600-01 0 /AR 600-02 0 /AR 600-07 0 /AR 600-09 0 /AR 600-50 0 /AR 600-51 0 /AR 600-546 0 /AR 600-548 0 /AR 600-549 0 /AR 600-55 0 /AR 600-56 0 /AR 600-60 0 /AR 600-61 0 /AR 600-70 0 /AR 600-71 0 /AR-BR 5400 0 /AR-N 2210 0 /AR-N 2220 0 /AR-N 2230 0 /AR-N 4200 0 /AR-N 4300 0 /AR-N 4400 0 /AR-N 4400-25 0 /AR-N 4400-50 0 /AR-N 4450 0 /AR-N 4600 0 /AR-N 7400 0 /AR-N 7500 0 /AR-N 7520 0 /AR-N 7520 neu 0 /AR-N 7700 0 /AR-N 7720 0 /AR-P 1200 0 /AR-P 3100 0 /AR-P 3200 0 /AR-P 3500 0 /AR-P 3500T 0 /AR-P 3700 0 /AR-P 3800 0 /AR-P 5300 0 /AR-P 5900 0 /AR-P 617 0 /AR-P 6200 0 /AR-P 631-671 0 /AR-P 632-672 0 /AR-P 639-679 0 /AR-P 6500 0 /AR-P 8100 0 /AR-PC 500 0 /AR-PC 5000 0 /AR-U 4000 0 /Bottomresist 0 /E-Beam Resist 0 /Entwickler 12 /Haftvermittler 2 /Negativ 0 /Negativ 0 /Photoresist 0 /Positiv 0 /Positiv 0 /Produkte 0 /Produktgruppen 0 /Prozesschemikalien 0 /Remover 5 /Schutzresist 0 /Stopper 1 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 7530/1 0 /SX AR-N 7730/1 0 /SX AR-N 8200-8250 0 /SX AR-P 3500/6 0 /SX AR-P 3500/8 0 /SX AR-P 3740/4 0 /SX AR-PC 5000/41 0 /SX AR-PC 5000/80.2 0 /SX AR-PC 5000/82.7 0 /Verdünner 4 /X AR-N 7700/30 0 /X AR-P 3220/7 0 /X AR-P 5900/4 0
Entwickler AR 300-26
Gepufferter Entwickler, für hohen Kontrast, steile Kanten, rasche Entwicklung
Entwickler AR 300-35
Universeller und gepufferter Entwickler, für Schichten bis 6 µm
Entwickler AR 300-44
Metallionenfreier Entwickler für Photoresist und novolakbasierte E-Beam Resist, Hauptbestandteil: TMAH, Normalität bei 0,26
Entwickler AR 300-46
Metallionenfreier Entwickler für Photoresist und novolakbasierte E-Beam Resist, Hauptbestandteil: TMAH, Normalität bei 0,24
Entwickler AR 300-47
Metallionenfreier Entwickler für Photoresist und novolakbasierte E-Beam Resist, Hauptbestandteil: TMAH, Normalität bei 0,20
Entwickler AR 300-475
Metallionenfreier Entwickler für Photoresist und novolakbasierte E-Beam Resist, Hauptbestandteil: TMAH, Normalität bei 0,17
Entwickler AR 600-50
Hochreiner und ultrafein-filtrierter Entwickler für E-Beam Resist, Hauptbestandteil: Methoxypropanol / Isopropylalkohol
Entwickler AR 600-546
Schwacher, hochreiner und ultrafein-filtrierter Entwickler für E-Beam Resist, Hauptbestandteil: Amylacetat
Entwickler AR 600-548
Starker, hochreiner und ultrafein-filtrierter Entwickler für E-Beam Resist, Hauptbestandteil: Diethylketon / Diethylmalonat
Entwickler AR 600-549
Mittelstarker, hochreiner und ultrafein-filtrierter Entwickler für E-Beam Resist, Hauptbestandteil: Diethylmalonat / Anisol
Entwickler AR 600-55
Starker, hochreiner und ultrafein-filtrierter Entwickler für E-Beam Resist, Hauptbestandteil: Methylisobutylketon (MIBK)
Entwickler AR 600-56
Schwacher, hochreiner und ultrafein-filtrierter Entwickler für E-Beam Resist, Hauptbestandteil: Methylisobutylketon (MIBK)
Haftvermittler AR 300-80 (neu)
Zur Verbesserung der Haftfestigkeit von Resists, Speziell bei: Metall, SiO2, GaAs. Einfachere und preiswertere Alternative zum HMDS.
Haftvermittler HMDS
Zur Verbesserung der Haftfestigkeit von Resists, Speziell bei: Metall, SiO2, GaAs
Remover AR 300-70
Zur Entfernung getemperter Photoresist- und E-Beamresist-Schichten
Remover AR 300-72
Zur Entfernung getemperter Photoresist- und E-Beamresist-Schichten
Remover AR 300-73
Zur Entfernung getemperter Photoresist- und E-Beamresist-Schichten
Remover AR 300-76
Zur Entfernung getemperter Photoresist- und E-Beamresist-Schichten
Remover AR 600-71
Zur Entfernung getemperter Photoresist- und E-Beamresist-Schichten
Stopper AR 600-60
Zum Abstoppen von E-Beam-Resist-Schichten nach der Entwicklung, Hauptbestandteil: Isopropanol
Verdünner AR 300-12
Zur Schichtdickeneinstellung von Photoresists und E-Beam Resists.
Verdünner AR 600-02
Zur Schichtdickeneinstellung von Photoresists und E-Beam Resists.
Verdünner AR 600-07
Zur Schichtdickeneinstellung von Photoresists und E-Beam Resists.
Verdünner AR 600-09
Zur Schichtdickeneinstellung von Photoresists und E-Beam Resists.
Übersicht Prozesschemikalien
Unser Qualitätsversprechen
Seit 1992 bieten wir unseren Kunden eine hohe Qualität unserer Produkte bei moderaten Preisen. Durch unsere Forschungsabteilung und unser Ohr am Kunden können wir schnell auf die Bedürfnisse des Marktes eingehen und stetig neue Produktinnovationen anbieten.
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