Alle 20 /AR 300-12 0 /AR 300-26 0 /AR 300-35 0 /AR 300-44 0 /AR 300-46 0 /AR 300-47 0 /AR 300-475 0 /AR 300-72 0 /AR 300-73 0 /AR 300-76 0 /AR 300-80 0 /AR 600-01 0 /AR 600-02 0 /AR 600-07 0 /AR 600-09 0 /AR 600-50 0 /AR 600-51 0 /AR 600-546 0 /AR 600-548 0 /AR 600-549 0 /AR 600-55 0 /AR 600-56 0 /AR 600-60 0 /AR 600-61 0 /AR 600-70 0 /AR 600-71 0 /AR-BR 5400 0 /AR-N 2210 0 /AR-N 2220 0 /AR-N 2230 0 /AR-N 4200 0 /AR-N 4300 0 /AR-N 4400 0 /AR-N 4400-25 0 /AR-N 4400-50 0 /AR-N 4450 0 /AR-N 4600 0 /AR-N 7400 0 /AR-N 7500 0 /AR-N 7520 0 /AR-N 7520 neu 0 /AR-N 7700 0 /AR-N 7720 0 /AR-P 1200 0 /AR-P 3100 0 /AR-P 3200 0 /AR-P 3500 0 /AR-P 3500T 0 /AR-P 3700 0 /AR-P 3800 0 /AR-P 5300 0 /AR-P 5900 0 /AR-P 617 0 /AR-P 6200 0 /AR-P 631-671 0 /AR-P 632-672 0 /AR-P 639-679 0 /AR-P 6500 0 /AR-P 8100 0 /AR-PC 500 0 /AR-PC 5000 0 /AR-U 4000 0 /Bottomresist 0 /E-Beam Resist 0 /Entwickler 0 /Haftvermittler 0 /Negativ 0 /Negativ 5 /Photoresist 0 /Positiv 0 /Positiv 15 /Produkte 0 /Produktgruppen 0 /Prozesschemikalien 0 /Remover 0 /Schutzresist 0 /Stopper 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 7530/1 0 /SX AR-N 7730/1 0 /SX AR-N 8200-8250 0 /SX AR-N 8400 0 /SX AR-P 3500/6 0 /SX AR-P 3500/8 0 /SX AR-P 3740/4 0 /SX AR-PC 5000/41 0 /SX AR-PC 5000/80.2 0 /SX AR-PC 5000/82.7 0 /Verdünner 0 /X AR 300-74/1 0 /X AR 600-60/1 0 /X AR-N 7700/30 0 /X AR-P 3220/7 0 /X AR-P 5900/4 0
E-Beam Resist AR-N 7520-Serie
Höchstauflösender Resist für mix- & match, für hochpräzise Kanten, thermisch stabil bis 140 °C
E-Beam Resist AR-N 7520neu-Serie
Höchstauflösender, hochempfindlicher Resist für mix- & match, thermisch stabil bis 140 °C
E-Beam Resist AR-P 617-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, Copolymer 33% MA, Lösemittel: Methoxypropanol
E-Beam Resist AR-P 6200-Serie (CSAR 62)
Kontrastreiche E-Beam Resists mit höchster Auflösung, sehr plasmaätzresistent
E-Beam Resist AR-P 632-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 50 K, Lösemittel: Anisol
E-Beam Resist AR-P 639-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 50 K, Lösemittel: Ethyllactat
E-Beam Resist AR-P 641-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 200 K, Lösemittel: Chlorbenzen
E-Beam Resist AR-P 642-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 200 K, Lösemittel: Anisol
E-Beam Resist AR-P 649-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 200 K, Lösemittel: Ethyllactat
E-Beam Resist AR-P 6510-Serie
Resists für hohe PMMA-Schichten über 250 µm zur Herstellung von Mikrobauteilen
E-Beam Resist AR-P 661-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 600 K, Lösemittel: Chlorbenzen
E-Beam Resist AR-P 662-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 600 K, Lösemittel: Anisol
E-Beam Resist AR-P 669-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 600 K, Lösemittel: Ethyllactat
E-Beam Resist AR-P 671-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 950 K, Lösemittel: Chlorbenzen
E-Beam Resist AR-P 672-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 950 K, Lösemittel: Anisol
E-Beam Resist AR-P 679-Serie
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 950 K, Lösemittel: Ethyllactat
E-Beam Resist AR-P 8100-Serie (Phoenix 81)
Thermolabiler Resist für integrierte Schaltkreise & holografische Strukturen
E-Beam Resist SX AR-N 8200 Serie (Medusa 82)
Vergleichbar mit HSQ, jedoch prozessstabiler, einfacher entfernbar und deutlich haltbarer
E-Beam Resist SX AR-N 8250 Serie (Medusa 82)
Vergleichbar mit HSQ, jedoch prozessstabiler, um den Faktor 20 empfindlicher
E-Beam Resist SX AR-N 8400 Serie (Medusa 84 SiH)
HSQ mit verbesserter Lagerfähigkeit und Stabilität
Übersicht E-Beam Resists
Unser Qualitätsversprechen
Seit 1992 bieten wir unseren Kunden eine hohe Qualität unserer Produkte bei moderaten Preisen. Durch unsere Forschungsabteilung und unser Ohr am Kunden können wir schnell auf die Bedürfnisse des Marktes eingehen und stetig neue Produktinnovationen anbieten.
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