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E-Beam Resist

Alle 20 /AR 300-12 0 /AR 300-26 0 /AR 300-35 0 /AR 300-44 0 /AR 300-46 0 /AR 300-47 0 /AR 300-475 0 /AR 300-72 0 /AR 300-73 0 /AR 300-76 0 /AR 300-80 0 /AR 600-01 0 /AR 600-02 0 /AR 600-07 0 /AR 600-09 0 /AR 600-50 0 /AR 600-51 0 /AR 600-546 0 /AR 600-548 0 /AR 600-549 0 /AR 600-55 0 /AR 600-56 0 /AR 600-60 0 /AR 600-61 0 /AR 600-70 0 /AR 600-71 0 /AR-BR 5400 0 /AR-N 2210 0 /AR-N 2220 0 /AR-N 2230 0 /AR-N 4200 0 /AR-N 4300 0 /AR-N 4400 0 /AR-N 4400-25 0 /AR-N 4400-50 0 /AR-N 4450 0 /AR-N 4600 0 /AR-N 7400 0 /AR-N 7500 0 /AR-N 7520 0 /AR-N 7520 neu 0 /AR-N 7700 0 /AR-N 7720 0 /AR-P 1200 0 /AR-P 3100 0 /AR-P 3200 0 /AR-P 3500 0 /AR-P 3500T 0 /AR-P 3700 0 /AR-P 3800 0 /AR-P 5300 0 /AR-P 5900 0 /AR-P 617 0 /AR-P 6200 0 /AR-P 631-671 0 /AR-P 632-672 0 /AR-P 639-679 0 /AR-P 6500 0 /AR-P 8100 0 /AR-PC 500 0 /AR-PC 5000 0 /AR-U 4000 0 /Bottomresist 0 /E-Beam Resist 0 /Entwickler 0 /Haftvermittler 0 /Negativ 0 /Negativ 5 /Photoresist 0 /Positiv 15 /Positiv 0 /Produkte 0 /Produktgruppen 0 /Prozesschemikalien 0 /Remover 0 /Schutzresist 0 /Stopper 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 4340/7 0 /SX AR-N 7530/1 0 /SX AR-N 7730/1 0 /SX AR-N 8200-8250 0 /SX AR-N 8400 0 /SX AR-P 3500/6 0 /SX AR-P 3500/8 0 /SX AR-P 3740/4 0 /SX AR-PC 5000/41 0 /SX AR-PC 5000/80.2 0 /SX AR-PC 5000/82.7 0 /Verdünner 0 /X AR 300-74/1 0 /X AR 600-60/1 0 /X AR-N 7700/30 0 /X AR-P 3220/7 0 /X AR-P 5900/4 0

E-Beam Resist AR-N 7520-Serie

Höchstauflösender Resist für mix- & match, für hochpräzise Kanten, thermisch stabil bis 140 °C

E-Beam Resist AR-N 7520neu-Serie

Höchstauflösender, hochempfindlicher Resist für mix- & match, thermisch stabil bis 140 °C

E-Beam Resist AR-P 617-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, Copolymer 33% MA, Lösemittel: Methoxypropanol

E-Beam Resist AR-P 6200-Serie (CSAR 62)

Kontrastreiche E-Beam Resists mit höchster Auflösung, sehr plasmaätzresistent

E-Beam Resist AR-P 632-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 50 K, Lösemittel: Anisol

E-Beam Resist AR-P 639-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 50 K, Lösemittel: Ethyllactat

E-Beam Resist AR-P 641-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 200 K, Lösemittel: Chlorbenzen

E-Beam Resist AR-P 642-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 200 K, Lösemittel: Anisol

E-Beam Resist AR-P 649-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 200 K, Lösemittel: Ethyllactat

E-Beam Resist AR-P 6510-Serie

Resists für hohe PMMA-Schichten über 250 µm zur Herstellung von Mikrobauteilen

E-Beam Resist AR-P 661-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 600 K, Lösemittel: Chlorbenzen

E-Beam Resist AR-P 662-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 600 K, Lösemittel: Anisol

E-Beam Resist AR-P 669-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 600 K, Lösemittel: Ethyllactat

E-Beam Resist AR-P 671-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 950 K, Lösemittel: Chlorbenzen

E-Beam Resist AR-P 672-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 950 K, Lösemittel: Anisol

E-Beam Resist AR-P 679-Serie

Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 950 K, Lösemittel: Ethyllactat

E-Beam Resist AR-P 8100-Serie (Phoenix 81)

Thermolabiler Resist für integrierte Schaltkreise & holografische Strukturen

E-Beam Resist SX AR-N 8200 Serie (Medusa 82)

Vergleichbar mit HSQ, jedoch prozessstabiler, einfacher entfernbar und deutlich haltbarer

E-Beam Resist SX AR-N 8250 Serie (Medusa 82)

Vergleichbar mit HSQ, jedoch prozessstabiler, um den Faktor 20 empfindlicher

E-Beam Resist SX AR-N 8400 Serie (Medusa 84 SiH)

HSQ mit verbesserter Lagerfähigkeit und Stabilität

Übersicht E-Beam Resists

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