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Willkommen bei Allresist

Wir entwickeln, produzieren und vertreiben Resists für die Optische und Elektronenstrahl-Lithographie sowie die dazugehörigen Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen. Unser Alleinstellungsmerkmal ist die Resistentwicklung nach Kundenwunsch. Mit hohem Knowhow und großer Flexibilität gelingt uns die kostengünstige Fertigung technologieangepasster Resists in kurzer Zeit.

Aktueller Resist des Monats

Oktober 2026: Entwicklung ohne toxisches TMAH – der neue Cholin-Entwickler von Allresist

Allresist bietet Cholin-Hydroxid-basierte Entwickler unter den Produktbezeichnungen AR 300-41 (45 %) und AR 300-42 (4,3 %) an. Sie eröffnen eine TMAH-freie Entwicklungsoption für verschiedene Photoresist- und HSQ-Prozesse.
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Zu allen Resists des Monats

Aktuelle Neuigkeit

Allresist auf der MNE 2026 in Interlaken – neue Entwicklungen für die Lithographie

Allresist auf der MNE 2026: Neue Produktentwicklungen, spannende Fachgespräche und viele neue Impulse. Besuchen Sie uns an Stand 20 in Interlaken und erfahren Sie mehr über unsere aktuellen Innovationen.
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Doppelter Grund zur Freude: Erfolgreiches Dichtfest und Finaleinzug beim Deutschen Nachhaltigkeitspreis 2027!

Eine Woche voller Meilensteine für Allresist: Mit dem Dichtfest unseres neuen Logistikzentrums in Strausberg haben wir einen wichtigen Bauabschnitt unseres rund 3-Millionen-Euro-Investitionsprojekts gefeiert. Gleichzeitig wurde unser nachhaltiges Medusa 84 SiH System als Finalist für den Deutschen Nachhaltigkeitspreis für Produkte 2027 ausgezeichnet. Zwei starke Signale für Wachstum, Innovation und eine nachhaltige Zukunft.
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Zu allen Neuigkeiten

Aktueller Resist-Wiki Beitrag

PPA für Zweilagenanwendungen

Das 2-Lagensystem bzw. Lift-off wird sehr erfolgreich für die Erzeugung unterschnittener Strukturen eingesetzt.
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Zum gesamten Resist-Wiki

Kennen Sie schon unser Resist-Wiki?

Dort finden Sie qualitativ hochwertige Antworten auf Ihre fachlichen Fragen.

Das Resist-Wiki ist eine Wissensplattform zu aktuellen Technologien der Mikroelektronik.

Es wird laufend um weitere Informationen aus unserer Forschung und Entwicklung ergänzt.

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Was unsere Kunden zu uns sagen

„Auf Allresist ist stets Verlass. Als wir 2003 unseren neuen Reinraum eingefahren haben, war immer schnelle Unterstützung da, wenn sich Probleme in unserer Technologie ergaben. Chargentreue und pünktliche Lieferung der jährlich gelieferten 300 Liter Resist garantieren uns eine hochwertige Produktqualität und effektive Arbeitsabläufe.”

„In der Forschung wird eine hohe Flexibilität der Resists sowie kompetente Beratung benötigt. Beides haben wir, besonders am Beispiel des E-Beam Resists AR-N 7520, bei Allresist erfahren.”

„Wir legen großen Wert auf eine faire und kooperative Zusammenarbeit. Deshalb fühlen wir uns mit unseren neuen PMMA-E-Beamresists bei Allresist gut aufgehoben.”

„Mit dem Lack AR-P 3110 von Allresist sind wir auf Anhieb klargekommen. Auch der Preis ist in Ordnung. Wir haben ihn deshalb auch unseren Partnern von der Dresdner Chipakademie weiter empfohlen.”

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