AR-N 4400 (CAR 44)

Negativresist-System für hohe Schichtdicken AR-N 4400 (CAR 44).

Die Resists der Serie AR-N 4400 (kurz CAR 44) sind chemisch verstärkte Negativresists für Schichtdicken von 5 – 100 μm für überwiegendem Einsatz in der Photolithographie. Mehrfachbeschichtungen sind problemlos möglich. Mit „Closed-Chuck-Systemen“ (Gyrset) sind doppelt so hohe Schichtdicken und mittels Gießtechnik sogar Schichten bis 1 mm erreichbar.
Die bei der Belichtung frei werdende Säure ermöglicht die thermische Vernetzung der aminischen Gruppen am multifunktionalen Novolak. Die Belichtung kann sowohl mit UV-Bestrahlung (250 – 436 nm) als auch mit E-Beam- bzw. Synchrotronbestrahlung erfolgen.
Es können Stegprofile mit außerordentlich hoher Kantensteilheit und sehr guter Strukturauflösung erzeugt werden. Außerdem eignen sie sich hervorragend zur Abdeckung von Topologien.
Der Resist AR-N 4450 dient darüber hinaus zur Erzeugung unterschnittener Strukturen (lift-off).
Die Entwicklung erfolgt wässrig-alkalisch. Die vernetzten Strukturen sind nass- oder plasmachemisch leicht entfernbar. Die Strukturen sind für galvanische Prozesse im pH-Bereich von 1 – 13 geeignet.
Die Resists bestehen aus speziellen Novolaken und lichtempfindlichen Säuregeneratoren gelöst in einem safer-solvent-Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformationen zum Download
» AR-N 4400

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