AR-P 3500 (T)

Photoresistsystem großer Prozessbreite AR-P 3500. Die Positiv-Photoresists der Serie AR-P 3500 sind Standardresists großer Prozessbreite, die zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen.
Die Resists AR-P AR-P 3510 T und 3540 T zeichnen sich durch eine robustere Verarbeitbarkeit aus, sie wurden für starke (0,26 n) TMAH-Entwickler, wie z.B. den AR 300-44 konzipiert.
Sie zeichnen sich durch hohe Lichtempfindlichkeit , hohes Auflösungsvermögen sowie gute Haftung auf Metall- und Oxidflächen aus. Da sie nicht zum Verkleben an der Maske neigen, sind sie gut für die Kontaktbelichtung geeignet. Hervorzuheben ist noch ihre gute Plasmaätzbeständigkeit.
Die Resists bestehen aus einer Novolak – Naphthochinondiazid – Kombination in einem safer-solvent-Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformation zum Download
» AR-P3500, AR-P 3500T

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