FAQ Photoresists

11.  Wie sind Photolackschichten wieder entfernbar?

Zur Entfernung gering getemperter Lackschichten eignen sich polare Lösemittel, wie z.B. der jeweilige Lackverdünner AR 300-12 (Methoxypropylacetat = PGMEA) und der Remover AR 600-
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12. Welche Anwendungsgebiete haben Schutzlacke (Protective Coating)?

Es gibt Schutzlacke für die verschiedensten Anwendungen, z.B. für den Rückseitenschutz von prozessierten Wafern: · für den mechanischen Schutz beim Transport · als Isolatorschicht bei KOH-
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13.  Wie arbeiten Umkehrlacke (Image Reversal Resists)?

Umkehrlacke, wie der AR-U 4000, liefern je nach Verarbeitungsregime ein positives oder negatives Bild der optisch übertragenden Vorlage. Verarbeitet man den Resist ganz normal wie einen Positivresist,
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14.   Wie entsteht ein Unterschnitt (Lift-off) bei Einlagen- und Zweilagensystemen?

Es gibt Einlagen- und Zweilagensysteme, mit denen ein Unterschnitt erzeugt werden kann. Ein Einlagenresist ist der AR-P 5350, mit ihm können z.B. Aufdampfmuster aus Metall erzeugt werden.
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15.  Wie werden Dicklacke > 10 µm optimal prozessiert?

Beschichtung: Generell gilt für die Beschichtung dicker Positiv- und Negativlacke: Die Resists sollten mehrere Stunden bis zu einen Tag vor der Verarbeitung ruhen (» Frage 6 optimale Beschichtung und Frage 7 Luftbläschen)
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16.  Welche Auflösung und welchen Kontrast haben Photoresists?

Die Auflösung von Resists ist von mehreren Parametern, wie z.B. vom Maskelinertyp, vor allem dessen NA (numerische Apertur), Schichtdicke, Belichtungs-wellenlänge, Entwicklerkonzentration und
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17.  Wie hoch ist die Plamaätzresistenz von Photoresists?

Die Photoresists der AR-Serien 3000 bis 4000 besitzen aufgrund der verwendeten Polymere eine gute Ätzresistenz, vor allem in den Trockenätzprozessen wie z.B. Argon-Sputtern, CF4 und CF 4 /
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18.  Wie hoch ist die Ätzresistenz der Photolacke gegenüber starken Säuren?

Konzentrierte oxidierende Säuren (Schwefelsäure, Salpetersäure, Königswasser 1) , Piranha 2) ) greifen schon bei Raumtemperatur die Resistschichten an und sind als Remover für hartnäckige Resiststrukturen bekannt.
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19.  Welche Photolacke sind für Flusssäure (HF)-Ätzungen geeignet?

Der positiv arbeitende Photoresist X AR-P 3100/10 ist extrem haftverstärkt und damit für Flusssäure-Ätzungen bis 5 % HF geeignet. Besonders auf Glas oder Siliziumoxid wird eine Vorbehandlung der Substrate mit dem Haftvermittler AR 300-
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20. Wie hoch ist die Lösemittelbeständigkeit von Photoresistschichten?

Bei den Photoresists gibt es rohstoffspezifisch zwei unterschiedliche Gruppen: · PMMA-Resists (Schutzlacke AR-PC 5000/4, 503, 504 und SX AR-N 4800) · Novolak-Resists (AR-P 3000, AR-
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