Am Beispiel vom AR-N 4340 werden Prozessparameter, Empfindlichkeit, Auflösung, Kantenqualität und Maßverhalten dargestellt. Die Untersuchungen erfolgten auf 150mm-Wafern mit Si-Oberfläche.
Bei vielen Lift-off-Applikationen wird die Resistschicht hohen thermischen Belastungen ausgesetzt. Positiv-Resists auf der Basis von Novolaken beginnen bei solchen Temperaturen zu schmelzen und machen so ein Liften unmöglich. Allresist entwickelt aus diesem Grund eine Serie von temperaturstabilen Negativphotolacken, ein Muster davon ist der SX AR-N 4340/10.
Strukturen aus Aluminium werden üblicherweise durch die Herstellung einer Lackmaske und anschließendem nasschemischen Ätzen erzeugt. Mit dem Negativlack SX AR-N 4360/1 kann die elegante Methode der Direktentwicklung angewendet werden.