Strukturen aus Aluminium werden üblicherweise durch die Herstellung einer Lackmaske und anschließendem nasschemischen Ätzen erzeugt. Mit dem Negativlack SX AR-N 4340/7 kann die elegante Methode der Direktentwicklung angewendet werden. Der gegen alkalische Entwickler außerordentlich beständige Photoresist wird direkt auf das Aluminium aufgeschleudert und wie üblich getrocknet, belichtet und entwickelt. Als Entwickler wird dabei der konzentrierte, metallionenfreie AR 300-44 verwendet. Nachdem die belichteten Photoresistschichten entfernt sind, greift der Entwickler die freigelegten Stellen des Aluminiums an. In zwei Minuten wird eine 100-nm-dicke Aluminiumschicht entfernt. Nach der einfach durchzuführenden Entfernung der Lackmaske bleiben die gewünschten Aluminiumstrukturen zurück.