Photoresist AR-N 2220
Einsatzfertiger Sprühresist zur Ätzung 54°-Böschungen
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Charakterisierung
- Breitbandband-UV, i-line, g-line
- zur gleichmäßige Bedeckung senkrechter Gräben
- für geätzte 54° Böschungen
- gute Haftung, glatte Oberfläche
- Novolak-Naphthochinondiazid-Kombination
- Safer Solvent PGMEA sowie Methylethylketon
Interessante Beiträge im Resist-Wiki
Eigenschaften
- Schichtdicke3-8 µm
- Auflösung1,0 µm
- Kontrast3,0
- Flammpunkt9 °C
- Lagerung 6 Monate10-18 °C
Verfügbare Bestellgrößen
- 1 x 100 ml (Testmuster)
- 1 x 250 ml
- 2 x 250 ml
- 1 x 1.000 ml
- 6 x 1.000 ml
- 1 x 2.500 ml
- 4 x 2.500 ml
Resiststrukturen
5 µm-Lackstrukturen von AR-N 2220 in 150 µm tiefen Ätzgruben
Passende Prozesschemikalien
Wissenschaftsposter
