SX AR-N 4340/7
Negativ-Photoresist für Ein- und Zweilagensysteme
Negativ-Photoresist für Ein- und Zweilagensysteme
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SX AR-N 4340/7: 0,7 µm Auflösung bei einer Schichtdicke von 1,4 µm.
SX AR-N 4340/7: Resiststrukturen nach 300 °C Temperung.
Spinkurve des SX AR-N 4340/7.