Schutzresist AR-PC 5090.02 (Electra 92)
Leitfähiger Schutzlack für nichtnovolakbasierte E-Beamresists
Top-Layer zur Ableitung von E-Beam-Aufladungen auf isolierenden Substraten
Charakterisierung
- ist als Schutzlack nicht licht-/strahlungsempfindlich
- dünne, leitfähige Schichten zur Ableitung von Aufladungen bei der Elektronenbestrahlung
- zur Beschichtung auf PMMA, CSAR 62, HSQ u.a.
- langzeitstabile, preisgünstige Espacer-Alternative
- leichtes Removing mit Wasser nach Bestrahlung
- pPolyanilin-Derivat gelöst in Wasser und Isopropanol
Eigenschaften
AR-P 7520.07 neu
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Schichtdicke/4.000 rpm: 0,10 µm
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Auflösung bester Wert: 30 nm
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Kontrast: 8
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Flammpunkt: 42 °C
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Lagerung bis 6 Monate: 10-18 °C
AR-P 7520.11 neu
AR-P 7520.17 neu
Passende Prozesschemikalien
- RemoverDI-Wasser
Ableitungen von Aufladungen
Auf Quarz geschriebene 200 nm große Quadrate ohne Verzeichnungen durch Aufladungen mit AR-P 662.04 und AR-PC 5090.02.
Prozessparameter
- Substrat4“ Quarz-Wafer mit AR-P 662.04
- Temperung
85 °C,
- Beschichtung2000 rpm, 60 nm auf E-Beamresist
Leitfähigkeit
Leitfähigkeitsmessungen der durch Schleuderbeschichtung erzeugten Schichten des AR-PC 5090. Mit dünneren Schichten nehmen der Widerstand zu und die Leitfähigkeit ab.
CSAR 62 auf Glas + Electra 92
Abb.: 30 – 150 nm Quadrate des CSAR 62 auf Glas
Die Kombination von CSAR 62 mit AR-PC 5090.02 bietet beste Möglichkeiten, komplizierte E-Beam-Strukturierungen auf Glas, Quarz oder semiisolierenden Substraten wie z.B. Galliumarsenid durchzuführen. Die sehr gute Empfindlichkeit und höchste Auflösung des CSAR werden durch die Leitfähigkeit des Electra harmonisch ergänzt.