Die Rasterelektronenmikroskopie (REM; im Englischen SEM: scanning electron microscope) ist eine weit verbreitete Methode zur Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen, wie sie üblicherweise mittels lithographischer Verfahren erzeugt werden. Dabei wird ein Elektronenstrahl über das vergrößert abzubildende Objekt geführt (gerastert) und die Wechselwirkung der eingestrahlten Elektronen mit dem Substrat zur Erzeugung eines Bildes ausgenutzt. Die typischerweise mit einem Rasterelektronenmikroskop erzeugten Bilder/Abbildungen der Objektoberflächen weisen eine hohe Schärfentiefe auf. Jedoch kommt es insbesondere in Fall isolierend wirkender Substrate schnell zu einer elektrostatischen Aufladung der Oberfläche, die den einfallenden Elektronenstrahl ablenkt und dadurch eine korrekte Abbildung massiv stören kann. Durch Aufdampfen (sputtern) von Edelmetallen wie Gold oder Palladium kann die Qualität der Abbildung in diesen Fällen erheblich verbessert werden, da die überschüssige Elektronen über die Metallschicht abgeleitet werden können. Das Aufbringen von Edelmetallen bringt aber auch Nachteile mit sich, so verändern sich manche Strukturen aufgrund auftretender thermischer Effekte irreversibel und der Einsatz von Edelmetallen ist teuer. Wie letzte Untersuchungen von Herrn Hentschel (4. Physikalisches Institut und Research Center SCoPE, Universität Stuttgart) zeigen, kann alternativ die leitfähige Beschichtung Electra 92 eingesetzt werden. Die Beschichtung auf stark elektrisch isolierend wirkenden Polymeren oder auch Glas ermöglichte die qualitativ hochwertige Abbildung von Nanostrukturen im REM:
Abbildung stark isolierender Polymerstrukturen (beschichtet mit Electra 92, AR-PC 5090.02) im REM
Nach der REM-Untersuchung kann die leitfähige Beschichtung mit Wasser wieder vollständig entfernt werden.