Halbedelsteine wie Saphir oder Granat gewinnen als Substrate für die Halbleiterindustrie immer mehr an Bedeutung. Diese Materialien verfügen über isolierende Eigenschaften. Mit Hilfe von Electra 92 ist jedoch eine Strukturierung mittels Elektronenstrahl-Lithographie möglich. An der Universität von Kalifornien arbeitet seit 2015 Herr Chi Tang mit Electra 92. Sein Fachgebiet ist die Beschichtung von PMMAs auf Halbedelsteinen wie z.B. Granat im PMMA-Zweilagenprozess. Seit er mit dem AR-PC 5090.02 (ehemals SX AR-PC 5000/90.2) arbeitet, kann er mit dem Zweilagensystem seine Lift-off-Strukturen problemlos prozessieren.
Lift-off-Strukturen auf Granat mit Unterstützung von Electra 92
E-Beam Resist Andere Resists