Um unsere Betriebsabläufe nach den Bedürfnissen unserer Kundinnen und Kunden auszurichten, haben wir uns ein Datum für die Annahme der letzten Bestellungsannahmen festgelegt: Bestellstopp: 11.12.2023 und Auslieferstopp: 13.12.2023
Themen im Überblick:
1. Allresist auf der MNE 2023 in Berlin
2. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ mit besseren Eigenschaften
3. Rubin-Projekt – Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich
4. Neuer Electra 92 erfolgreich eingeführt
5. Farbige und fluoreszierende Resists für optische Anwendungen
Da Medusa 84 SiH, im Gegensatz zu Medusa 82 aus rein anorganischen Komponenten besteht, ist seine optische Transparenz deutlich höher. Diese Transparenz ist für eine größere Kundengruppe wichtig, die solche Resists für optische Anwendungen nutzen.
Allresist verfolgt ein sozial verantwortliches und ökologisches Geschäftsmodell. Ein Artikel von Eva-Martina Weyer in Magazin FORUM.
Aufgrund der großen Absatzmenge ist der AR-P 672.045 unser interner „Marktführer“. Dieser Resist wird von drei großen Mikrochip-Herstellern in Frankreich, Deutschland und China eingesetzt. Damit erhöht sich der Verbrauch stetig; mittlerweile werden jährlich über 300 Liter allein von diesem Resist bestellt.
Themen im Überblick:
1. Allresist erhielt am 20. Februar bedeutende IHK-Urkunde für vorbildliche CO2-Bilanz bei der Bestimmung ihres CO2-Fußabdrucks auf dem Weg zur Klimaneutralität
2. Allresist wurde am 15. März als „Arbeitgeber der Zukunft“ ausgezeichnet
3. EOS 72, unser neuer hochempfindlicher und alkalistabiler E-Beamresist
4. Neues ZIM-Projekt – Photoresists für konkave und konvexe Oberflächen
5. Allresist wieder auf den Kongressen EIPBN und MNE vertreten
Allresist wurde am 15.03.2023 als „Arbeitgeber der Zukunft“ vom Deutschen Innnovationsinstitut für Nachhaltigkeit und Digitalisierung ausgezeichnet.
Allresist erhält am 20.02.2023 als Vorreiter bedeutende IHK-Urkunde für vorbildliche CO2-Bilanz bei der Bestimmung ihres CO2-Fußabdrucks auf dem Weg zur Klimaneutralität
Von Anfang an war der Gedanke der Nachhaltigkeit fest in der Firmenphilosophie der Allresist verankert. Eine der ersten Weiterentwicklung des jungen Unternehmens war der Austausch der teratogenen Lösemittel des Positiv-Photoresists AR-P 351 durch Safer Solvents. So entstand der Standardresist AR-P 3510, bei dem die exzellenten lithographischen Eigenschaften beibehalten wurden, der Lack aber für die Anwender nun bedeutend ungefährlicher war.
Wir haben nun eine Qualität der Anilin-Polymere erreicht, bei der auf den Zusatz von Isopropanol verzichtet werden kann. Dadurch erhöht sich auch die Stabilität der Resistmischungen des AR-PC 5092. Langzeitversuche belegen, dass die Lagerstabilität deutlich höher ist als bei den bisherigen Electra-Varianten.