Die Entwicklungsarbeiten an unserem neuen Photoresist Atlas 46 wurden fortgeführt. Anhand eigener Ergebnisse oder durch Hinweise und Wünsche der Anwender wurde die Rezeptur und die Eigenschaften verbessert.
Die Märkische Oderzeitung schrieb am 07.05.2020 einen Artikel über unser Engagement in der Corona-Krise.
Die Märkische Oderzeitung schrieb am 07.05.2020 einen Artikel über unser Engagement in der Corona-Krise.
Bei seiner Informationstour durch Brandenburg stattete Ministerpräsident Dietmar Woidke Allresist am 17. August einen Besuch ab. Sein Hauptinteresse lag in der Frage, wie Allresist durch die Corona-Krise kommt. Nach einem informativen Rundgang durch die Firma und einer ausführlichen Präsentation zeigte sich MP D. Woidke begeistert, zumal er einige Ähnlichkeiten in den wissenschaftlichen Aufgaben mit seinem früheren Beruf als Diplom-Agrar-Wissenschaftler feststellte.
In Zusammenarbeit mit dem Förderverein Centrum für intelligente Sensorik (CiS, Erfurt) entwickelten wir 2004 den ersten Bottomresist (BR). Dieser Bottom-Resist ist nicht lichtempfindlich, jedoch wässrig alkalisch entwickelbar.
Die Märkische Oderzeitung schrieb am 07.05.2020 einen Artikel über unser Engagement in der Corona-Krise.
Allresist liefert ab jetzt unsere Kunden, Desinfektionsmittel für die hygienische Händedesinfektion Ihrer Mitarbeiter sowie zu Flächendesinfektion. Not macht erfinderisch. In Zeiten der Corona-Krise müssen alle kreativ mit anpacken und sich gegenseitig helfen. Aufgrund der Desinfektionsmittel-Knappheit kamen wir auf die Idee, diese selbst entsprechend der WHO-Rezeptur herzustellen, 1. um den enorm gestiegenen Bedarf von Krankenhäusern und Arztpraxen sowie Pflegeeinrichtungen, Ämtern und Schulen zu entsprechen und 2. um unseren Kunden diese für den Schutz ihrer Mitarbeiter anzubieten.
Optisch dichte Resists spielen in der Industrie eine zunehmend größere Rolle. In der optischen Industrie, der Automobil-Industrie und bei der Drehgeber-Herstellung werden sogenannte Schwarzlacke benötigt.
Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.
Themen im Überblick:
27 Jahre Allresist – fest auf dem Weltmarkt etabliert
; Allresist erfolgreich auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 für die E-Beam Grauton-Lithographie
; Resiststrukturen für den Spin-Hall-Effekt