2L-Lift-off-System AR-P 617 – AR-P 8100

Anisolische PPA-Lösungen können auf PMMAcoMA 33 (AR-P 617) beschichtet werden. Die einzelnen Schichten addieren sich jeweils, es findet keine Durchmischung statt; eine entscheidende Voraussetzung für die Realisierung definierter 2- und auch 3-Lagensysteme

Verwendung von PPA in Mehrlagenprozessen

Anisolische PPA-Lösungen können sowohl auf PMMA (600k, 950k), PMMAcoMA (AR-P 617) als auch auf Bottomresist AR-BR 5480 (Alternative zu PMGI) beschichtet werden.

Herstellung unterschnittener Strukturen in 3-Lagenprozessen für T-Gates

Für den Aufbau von Dreilagensystemen zur Herstellung von T-Gates gibt es prinzipiell mehrere Möglichkeiten. Entscheidend ist, dass sich die unterschiedlichen Resists bei der Beschichtung nicht vermischen, um einen einheitlichen und gut definierten Schichtaufbau zu gewährleisten.

Zweilagen-E-Beam Resist System mit Novolaken als Bottomresist

Für Mehrlagenanwendungen in der E-Beam-Lithographie bietet Allresist den vielseitig einsetzbaren Bottomresist AR-BR 5460/5480 an.