E-Beam Resist AR-P 6510-Serie
Produkt auf Anfrage
(AR-P 6510.15, AR-P 6510.17)
Resists für hohe PMMA-Schichten über 250 µm zur Herstellung von Mikrobauteilen
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Resists für hohe PMMA-Schichten über 250 µm zur Herstellung von Mikrobauteilen
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R-P 6510.17: Schichtdicke 40 µm, Strukturen bis 5 µm (Synchrotron)
100 °C, 4 h Konvektionsofen
Synchrotron
AR 600-51, 20 min
AR 600-61, 3 min
AR-P 6510.17(verdünnt): Bestrahlung mittels E-Beam (Entwickler AR 600-55), Schichtdicke 5 µm