Medusa 84 SiH

Der Resist HSQ wird weltweit in der Elektronenstrahl-Lithographie eingesetzt. Neben seinen guten Eigenschaften ist jedoch seine Haltbarkeit sehr begrenzt. Zudem beklagten viele Kunden die zunehmend schwierigere Belieferung mit dem HSQ, weil wohl demnächst die Produktion ganz eingestellt wird. Deshalb entschlossen wir uns vor einem Jahr aktiv zu werden und einen weiteren HSQ analogen Resist höherer Stabilität zu entwickeln. Wir gaben ihm den Namen Medusa 84 SiH (SX AR-N 8400), damit gehört er in die Medusa-Gruppe, unterscheidet sich jedoch von den beiden Medusa 82 Varianten ¹⁾.

Da Medusa 84 SiH, im Gegensatz zu Medusa 82 aus rein anorganischen Komponenten besteht, ist seine optische Transparenz deutlich höher. Diese Transparenz ist für eine größere Kundengruppe wichtig, die solche Resists für optische Anwendungen nutzen. Das können z.B. mittels Elektronenstrahl-Lithographie hergestellte Strukturen wie das in Abb. 1 gezeigte diffraktive optische Element (DOE) oder unstrukturierte Funktionsschichten in der Optik sein.

Abb. 1 Mit Medusa 82 hergestelltes DOE      @ U. Hübner, P. Voigt, Leibnitz-Institute of Photonic Technology G, Jena

Zudem gelang es durch Auswahl eines speziellen unpolaren Resist-Lösemittels, die Haltbarkeit von Medusa 84 SiH deutlich zu erhöhen. Unsere bereits seit 8 Monaten stehenden Lagerproben haben eine unverändert hohe Qualität.

Verschiedene Partner testeten erste Muster und bestätigten uns die hervorragenden Eigenschaften des Medusa 84 SiH. Sobald wir weitere, repräsentative Ergebnissen haben, werden wir Sie informieren. Bereits ab November 2023 stehen auch kleine 30 ml Muster zur Verfügung. Falls Sie Interesse an einer Erprobung haben, melden Sie sich bitte bei uns.

Abb. 2 Dosisstaffel des Medusa 84 SiH, Dosis 950 µC/cm², 30 kV, Entwickler AR 300-44

Die ersten beindruckend guten Ergebnisse unseres Medusa 84 SiH veranlassten uns, ihn zum Resist des Monats Oktober zu machen.

• Weitere Infos auf allresist.de bzw. 48. AR NEWS Oktober 2023