Der E-Beam PMMA-Resist AR-P 672.045
Das Arbeitspferd für die Elektronenstrahl-Lithographie
April 2023
Mit der Gründung der Allresist vor 30 Jahren wurden die PMMA-Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie mit in das Produktportfolio aufgenommen. Das zu DDR-Zeiten entwickelte PMMA-Copolymer (früher PSKL, jetzt AR-P 617) und die selber synthetisierten PMMAs (Molmassen 50k und 200k) wurden beibehalten und mit PMMAs höherer Molmasse (600k und 950k) ergänzt.
Die gesamte Resistfamilie AR-P 630 – 670 zeichnet sich durch ein sehr zuverlässiges und einfaches Handling aus und besitzt zudem eine unübertroffene Langzeitstabilität. Durch den neuen, „grünen“ Entwickler AR 600-57 auf der Basis von Wasser und Isopropanol erhöht sich die Attraktivität der Resistgruppe nochmals. Lediglich etwas längere Schreibzeiten im Vergleich mit anderen E-Beam Resists (z.B. CSAR 62) müssen hier in Kauf genommen werden.
Aufgrund der großen Absatzmenge ist der AR-P 672.045 unser interner „Marktführer“. Dieser Resist wird von drei großen Mikrochip-Herstellern in Frankreich, Deutschland und China eingesetzt. Damit erhöht sich der Verbrauch stetig; mittlerweile werden jährlich über 300 Liter allein von diesem Resist bestellt.
Ein Siemensstern hergestellt mit dem AR-P 672.045
Die hohe Zuverlässigkeit und der fortdauernde Markterfolg haben uns bewogen, den AR-P 672.045 zum Resist des Monates April zu wählen.