E-Beam Resist AR-P 642-Serie
(AR-P 642.04, AR-P 642.12)
Höchstauflösende Resists für Nanometerlithographie, PMMA 200K
(AR-P 642.04, AR-P 642.12)
Höchstauflösende Resists für Nanometerlithographie, PMMA 200K
Für weitere Wünsche nehmen Sie bitte Kontakt mit uns auf.
Stetige Zunahme des Unterschnittes
Definition: Die Empfindlichkeit für eine Linie wird in pC/cm angegeben, für eine Fläche ist die Einheit µC/cm²
Grabenbreite oben: 20 nm, Messwerte im Diagramm: Breite der Gräben unten