Richtiges Verdünnen von Lacken. (siehe Verdünnung von Resists)
Jeder Resist besteht hauptsächlich aus Lösemitteln. Die meisten Photoresists und die Negativ-E-Beam Resists verwendet als Hauptlösemittel das PMA (PGMEA). Dieses Lösemittel ist deshalb auch der gebräuchlichste Verdünner und wird von uns unter der Bezeichnung AR 300-12 angeboten. Das PMA wird häufig auch zur Randwulstentfernung eingesetzt. (siehe Beseitigung bzw. Minimierung der Randwulst beim Beschichten)
Wir empfehlen dringend, für das Verdünnen von Resists nur den empfohlenen Verdünner zu verwenden. Natürlich kann man den Feststoffgehalt auch mit anderen Lösemitteln verringern. Das Löslichkeitsverhalten von Aceton, Isopropanol, Dioxan, Butylacetat u.a. würde das komplette Lösen aller Feststoffanteile bewirken, jedoch verändert sich das Beschichtungsverhalten der Lacke zum Teil dramatisch, eine hohe Oberflächengüte wäre nur in Ausnahmefällen zu erreichen.
In der PMMA-E-Beam Lithographie werden mit Chlorbenzen, Anisol und Ethyllactat unterschiedliche Lösemittel verwendet. Jedes der Lösemittel steht als Verdünner zur Verfügung: Chlorbenzen als AR 600-01 , Anisol als AR 600-02 und Ethyllactat als AR 600-09. Hinzu kommt noch das Lösemittel der PMMA-Copolymeren Methoxypropanol, das als AR 600-07 angeboten wird.
Für die unterschiedlichen Spray-Resists gelten besondere Bedingungen. Das Restlösemittel setzt sich aus schnell trocknenden und schichtbildenden Komponenten zusammen. Die Lösemittelzusammensetzung der Sprühlacke wurde aufwändig optimiert. Geringe Abweichungen von der Lösemittelzusammensetzung bewirken ein stark unterschiedliches Beschichtungsverhalten. Deshalb sollten hier in jedem Fall nur die Original-Verdünner eingesetzt werden.
Bis auf die Verdünner-Mischungen der Spray-Resists sind die anderen, reinen Verdünner weit über das garantierte Haltbarkeitsdatum verwendbar. Sie enthalten keine Komponenten, die einer Veränderung unterliegen.