Themen im Überblick: 1. Allresist auf den Konferenzen EIPBN 2025 und MNE 2025 // 2. Medusa 84 – AR-N 8400 SiH, ein qualitativ hochwertiger Ersatz für HSQ-basierte Resists // 3. Allresist gründet neue Betriebstätte in Teltow // 4. ZIM-Projekt erfolgreich abgeschlossen: Entwicklung eines Photoresists zur Strukturierung nicht-planarer Objekte
Der Gnadenhof „Letzte Zuflucht“ in Letschin bietet kranken, verängstigten, verhaltensgestörten und verwahrlosten Tieren ein meist letztes, liebvolles Zuhause. Allresist spendet 500 €, damit Tierarzt-Rechnungen und andere Investitionen bezahlt werden können. Unsere engagierten Mitarbeiter haben großzügige Sachspenden wie z.B. Tierfutter und Wasch-/Reinigungsmitteln und Gutscheine organisiert.
Wir möchten Sie über unsere Weiterentwicklung unserer Hightech-Resists Medusa 84, Electra 94 und Phoenix 81 informieren.
Themen im Überblick: Themen im Überblick: Allresist auf den Konferenzen EIPBN 2024 und MNE 2024 / Weltweites Interesse für Medusa 84 – AR-N 8400 SiH / Tochter Ulrike Schirmer zur Geschäftsführerin berufen / Unsere aktuellen Umweltaktivitäten: Neupflanzung von Bäumen / Keine Preiserhöhung 2025 unserer Preislistenprodukte
Um unsere Betriebsabläufe nach den Bedürfnissen unserer Kundinnen und Kunden auszurichten, haben wir uns ein Datum für die Annahme der letzten Bestellungsannahmen festgelegt: Bestellstopp: 11.12.2024 und Auslieferstopp: 16.12.2024
Allresist bietet künftig einsatzfähige Resists als Ersatz für HSQ in drei unterschiedlichen Schichtdicken an: 50 nm (4.000 rpm, 4 % Feststoff), 100 nm (4.000 rpm, 8 % Feststoff), 400 nm (4.000 rpm, 22 % Feststoff) → 1,0 µm /800 rpm
Durch eine gezielte Syntheseführung, die genau die stabile und empfindliche Molekülfraktion des HSQ-Polymers separiert, und durch aufwändige Reinigungsoperationen können wir hier nun einen deutlich stabileren Resist anbieten.
Themen im Überblick:
1. Allresist auf dem „8th Thermal Probe Workshop“ von Heidelberg Instruments Nano AG
2. Vom PPA-Pulver zum flüssigen Resist: der Phoenix 81
3. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400: Die Markteinführung hat begonnen
4. Unsere aktuellen Umweltaktivitäten: Neupflanzung von Bäumen
Am AMOLF wurde Electra 92 auf HSQ beschichtet, welches auf eine 40 nm dicke SiO2-Schicht eines Siliziumwafers aufgebracht war. Aufgrund seiner stark hydrophoben Oberfläche ist HSQ besonders anspruchsvoll. Für diese Aufgabe war eine speziell angepasste Variante des Electra 92 erforderlich.
Wir sind am Dienstag, 30.01.2024, auf Grund unseres Strategie-Workshops, nicht für Sie erreichbar. Wir werden uns ab dem 31.01.24 wieder umgehend um alle Anfragen und Bestellungen kümmern.