49. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
1. Allresist auf dem „8th Thermal Probe Workshop“ von Heidelberg Instruments Nano AG
2. Vom PPA-Pulver zum flüssigen Resist: der Phoenix 81
3. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400: Die Markteinführung hat begonnen
4. Unsere aktuellen Umweltaktivitäten: Neupflanzung von Bäumen

Januar 2024: Electra 92 am Markt etabliert – AR-PC 5092.02

Am AMOLF wurde Electra 92 auf HSQ beschichtet, welches auf eine 40 nm dicke SiO2-Schicht eines Siliziumwafers aufgebracht war. Aufgrund seiner stark hydrophoben Oberfläche ist HSQ besonders anspruchsvoll. Für diese Aufgabe war eine speziell angepasste Variante des Electra 92 erforderlich.

Am 30.01.2024 wegen Strategie-Workshop nicht erreichbar!

Wir sind am Dienstag, 30.01.2024, auf Grund unseres Strategie-Workshops, nicht für Sie erreichbar. Wir werden uns ab dem 31.01.24 wieder umgehend um alle Anfragen und Bestellungen kümmern.

Spende für ausgefüllte Kundenumfragen

Herzlichen Dank für Ihre Teilnahme an unserer Kundenumfrage! Uns haben ca. 150 ausgefüllte Umfragebögen erreicht. Wir haben ein wenig aufgerundet und uns für einen Spendenbetrag von 200 Euro entschieden. Somit haben wir der Organisation Save the Children dieses Geld überwiesen.

Wichtige Informationen zu Lieferungen zwischen den Jahren

Um unsere Betriebsabläufe nach den Bedürfnissen unserer Kundinnen und Kunden auszurichten, haben wir uns ein Datum für die Annahme der letzten Bestellungsannahmen festgelegt: Bestellstopp: 11.12.2023 und Auslieferstopp: 13.12.2023

48. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
1. Allresist auf der MNE 2023 in Berlin
2. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ mit besseren Eigenschaften
3. Rubin-Projekt – Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich
4. Neuer Electra 92 erfolgreich eingeführt
5. Farbige und fluoreszierende Resists für optische Anwendungen

Oktober 2023: Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ

Da Medusa 84 SiH, im Gegensatz zu Medusa 82 aus rein anorganischen Komponenten besteht, ist seine optische Transparenz deutlich höher. Diese Transparenz ist für eine größere Kundengruppe wichtig, die solche Resists für optische Anwendungen nutzen.

Der Gesellschaft und Umwelt verpflichtet (Forum)

Allresist verfolgt ein sozial verantwortliches und ökologisches Geschäftsmodell. Ein Artikel von Eva-Martina Weyer in Magazin FORUM.

April 2023: Der E-Beam PMMA-Resist AR-P 672.045 – das Arbeitspferd für die Elektronenstrahl-Lithographie

Aufgrund der großen Absatzmenge ist der AR-P 672.045 unser interner „Marktführer“. Dieser Resist wird von drei großen Mikrochip-Herstellern in Frankreich, Deutschland und China eingesetzt. Damit erhöht sich der Verbrauch stetig; mittlerweile werden jährlich über 300 Liter allein von diesem Resist bestellt.

47. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
1. Allresist erhielt am 20. Februar bedeutende IHK-Urkunde für vorbildliche CO2-Bilanz bei der Bestimmung ihres CO2-Fußabdrucks auf dem Weg zur Klimaneutralität
2. Allresist wurde am 15. März als „Arbeitgeber der Zukunft“ ausgezeichnet
3. EOS 72, unser neuer hochempfindlicher und alkalistabiler E-Beamresist
4. Neues ZIM-Projekt – Photoresists für konkave und konvexe Oberflächen
5. Allresist wieder auf den Kongressen EIPBN und MNE vertreten