Themen im Überblick:
1. Allresist auf der MNE 2023 in Berlin
2. Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ mit besseren Eigenschaften
3. Rubin-Projekt – Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich
4. Neuer Electra 92 erfolgreich eingeführt
5. Farbige und fluoreszierende Resists für optische Anwendungen
Themen im Überblick:
1. Allresist erhielt am 20. Februar bedeutende IHK-Urkunde für vorbildliche CO2-Bilanz bei der Bestimmung ihres CO2-Fußabdrucks auf dem Weg zur Klimaneutralität
2. Allresist wurde am 15. März als „Arbeitgeber der Zukunft“ ausgezeichnet
3. EOS 72, unser neuer hochempfindlicher und alkalistabiler E-Beamresist
4. Neues ZIM-Projekt – Photoresists für konkave und konvexe Oberflächen
5. Allresist wieder auf den Kongressen EIPBN und MNE vertreten
Themen im Überblick:
1. 30 Jahre Allresist: Ministerpräsident Woidke würdigt das Unterneh-men
2. Allresist auf EIPBN in New Orleans
3. Electra 92 weiter verbessert – neuer AR-PC 5092
4. Allresist auf MNE in Leuven
5. Rubin-Projekt – Wellenleitermaterialien für den NIR/VIS-Bereich
6. Allresist bestimmt den CO2-Fußabdruck
Themen im Überblick:
1. Die Ukraine im Krieg: Auch wir tragen Verantwortung
2. Corona und kein Ende?
3. Allresist wieder präsent auf Kongressen
4. Umweltfreundlicher „Grüner“ PMMA-Entwickler
5. Profit-Projekt des Landes Brandenburg QD-LED
6. Allresist pflanzt Bäume
Themen im Überblick:
1. Arbeiten im Zeichen von Corona
2. Effizientere Herstellung von Electra 92
3. RUBIN-Projekt für die optische Sensorik eingelobt
4. EOS 72, ein chemisch verstärkter Positiv-E-Beam Resist
5. Allresist pflanzt Bäume
Themen im Überblick:
1. Allresist zukunftsfähig
2. Allresist investiert in neue Technik
3. Strukturierbare leitfähige Schichten
4. CSAR 62 – weltweit begehrt
Themen im Überblick:
1. Ministerpräsident Dietmar Woidke besucht Allresist in Corona-Zeiten
2. Länger haltbare und empfindlichere HSQ-Alternative Medusa 82 für die Grauton-
Lithographie
3. Medusa für die UV-Lithographie
4. Thermisch strukturierbare Resists
Themen im Überblick:
1. Wie sich Allresist der Corona-Krise stellt
2. Gemeinsam gegen Covid-19 – preiswerte Lieferung von Desinfektionsmitteln
3. Quantum Dots für die Variation der Wellenlängen von LEDs
4. Schwarzlack SX AR-N 8355/7, ein lichtdichter, lithographisch strukturierbarer Resist
5. 27 Jahre – Die Geschichte einer erfolgreichen Zusammenarbeit mit Herrn Preuß
vom Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH (CiS, Erfurt)
Themen im Überblick:
27 Jahre Allresist – fest auf dem Weltmarkt etabliert
; Allresist erfolgreich auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 für die E-Beam Grauton-Lithographie
; Resiststrukturen für den Spin-Hall-Effekt
Themen im Überblick:
Synthesewoche im neuen Produktionstrakt
; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 besteht vielfältige Anwendungstests
; Auflösungstest mit dem empfindlichen PAG-Medusa 82 (SX AR-N 8250)
; Einfluss des PEB auf die Empfindlichkeit von Medusa 82
; Plasmaätzversuche mit Medusa-Strukturen
; Medusa 82 mit einem gezielt geringen Kontrast
; Fünf farbige Negativresists auf einem Glaswafer