Themen im Überblick:
27 Jahre Allresist – fest auf dem Weltmarkt etabliert
; Allresist erfolgreich auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 für die E-Beam Grauton-Lithographie
; Resiststrukturen für den Spin-Hall-Effekt
Themen im Überblick:
Synthesewoche im neuen Produktionstrakt
; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 besteht vielfältige Anwendungstests
; Auflösungstest mit dem empfindlichen PAG-Medusa 82 (SX AR-N 8250)
; Einfluss des PEB auf die Empfindlichkeit von Medusa 82
; Plasmaätzversuche mit Medusa-Strukturen
; Medusa 82 mit einem gezielt geringen Kontrast
; Fünf farbige Negativresists auf einem Glaswafer
Themen im Überblick:
26 Jahre Allresist – Einweihung des neuen Anbaues zum Firmenjubiläum
; Allresist landet mit Medusa 82 großen Erfolg auf der MNE 2018
; Weitere Allresist-Highlights auf der MNE
; Atlas 46 für die E-Beam-Lithographie
; Phoenix 81 – der weltweite Vertrieb beginnt
; Nachwuchs bei Allresist – Next Generation
Themen im Überblick:
Unsere Firmen-Erweiterung wächst
; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2018) und MNE 2018
; Atlas 46 in mehreren Varianten für einen selektiven Zweilagen-Aufbau
; Fluoreszierende Resists für die Optik und Sensorik mit Atlas 46 S
; Medusa 82 – aus einem Resist werden „steinerne“ Strukturen
; Neuer Schutzlack für KOH-/ HF-Ätzungen – BlackProtect SX AR-PC 5000/41
Themen im Überblick:
25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung
; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik
; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben
; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates
Themen im Überblick:
25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung
; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik
; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben
; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates
Themen im Überblick:
Allresist plant erneute Gebäude-Erweiterung im 25. Jahr ihres Bestehens
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Wissenschaftliche Partnerschaften für die MNE 2017
Themen im Überblick: Allresist plant erneute Erweiterung ihres Gebäudes im 25. Jahr Ihres Bestehens; Neue Vertriebspartner; Thermisch entwickelbarer Positivresist „Phoenix 81“; Negativ-Photoresist „Atlas 46“ unsere wirkungsvolle Alternative zum SU-8; Positiv CAR-E-Beamresist „EOS 72“ unsere Antwort auf den FEP 171; 25 Jahre Allresist
Themen im Überblick:
24. Jubiläum Allresist;
Allresist Silbersponsor auf der MNE 2016 in Wien;
Neues von CSAR 62 und Electra 92;
Optimierte T-Gate-Strukturen mit Dreilagensystemen aus PMMA, Copolymer 617 und CSAR 62;
Neue Entwickler für PMMAcoMA (AR-P 617, 50 kV);
Neues Labor und neuer Rotationsverdampfer für die Produktion
Themen im Überblick:
; Allresist im 24. Jahr mit Innovationen weiter im Aufschwung
; Polyphthalaldehyd (PPA) als E-Beamresist
; Leitfähige Polymerelektroden für Stapelaktoren – smart3
; Polyphotonics – neue Resists für optische Komponenten bzw. Anwendungen in
der Mikroelektronik