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Einträge von AllAdmin

Januar 2020: Schwarzlack SX AR-N 8355/7

Optisch dichte Resists spielen in der Industrie eine zunehmend größere Rolle. In der optischen Industrie, der Automobil-Industrie und bei der Drehgeber-Herstellung werden sogenannte Schwarzlacke benötigt.

Oktober 2019: Medusa 82 UV

Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.

40. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
27 Jahre Allresist – fest auf dem Weltmarkt etabliert
; Allresist erfolgreich auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 für die E-Beam Grauton-Lithographie
; Resiststrukturen für den Spin-Hall-Effekt

Medusa 82 auf der MNE auf Rhodos

Allresist war auf dem Kongress wie in den Jahren zuvor mit einem repräsentativen Stand vertreten. Diese MNE stand unter dem Motto „Going Nano in Homer´s Land“. Das war für unseren Vortrag ein hervorragender Anknüpfungspunkt, weil unser neuer E-Beamresist den Namen Medusa 82 trägt. Blickte Medusa aus der griechischen Mythologie einen Menschen an, wurde er zu Stein. Wird die Medusa Schicht bestrahlt, wird sie auch zu Stein (SiO2).

Produktionstrakt-Erweiterung

Allresist fuhr am 29. April 2019 den neuen Produktionstrakt ein, in dem künftig 1.000 l Resist-Ansätze und große Synthesen mit modernster Technik unter Berücksichtigung aller Sicherheitsbelange stattfinden.

April 2019: Phoenix 81

Allresist hat Phoenix 81 (AR-P 8100) in einem Eurostar-Projekt zusammen mit der Swisslitho AG und anderen Partnern entwickelt. Swisslitho hat jetzt den NanoFrazor mit einem Laser-Direktschreiber ergänzt (siehe Abb. 1). Nunmehr ist es möglich, komplizierte Strukturen wie z.B. Single-Elektronen-Transistoren (SET) kostengünstig herzustellen. Die SET bestehen aus sehr kleinen Strukturen von wenigen Nanometern und relativ großen Details mit einigen 10 µm (siehe Abb. 2).

39. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
Synthesewoche im neuen Produktionstrakt
; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 besteht vielfältige Anwendungstests
; Auflösungstest mit dem empfindlichen PAG-Medusa 82 (SX AR-N 8250)
; Einfluss des PEB auf die Empfindlichkeit von Medusa 82
; Plasmaätzversuche mit Medusa-Strukturen
; Medusa 82 mit einem gezielt geringen Kontrast
; Fünf farbige Negativresists auf einem Glaswafer

38. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
26 Jahre Allresist – Einweihung des neuen Anbaues zum Firmenjubiläum
; Allresist landet mit Medusa 82 großen Erfolg auf der MNE 2018
; Weitere Allresist-Highlights auf der MNE
; Atlas 46 für die E-Beam-Lithographie
; Phoenix 81 – der weltweite Vertrieb beginnt
; Nachwuchs bei Allresist – Next Generation

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