Vielseitiger Phoenix 81 (AR-P 8100)

Phoenix 81 wurde im Rahmen eines Eurostar-Projektes gemeinsam mit der Swisslitho AG (jetzt Heidelberg Instruments Nano) entwickelt. Mit dem NanoFrazor lassen sich durch thermische Rastersonden-Lithographie (thermal scanning probe lithography oder t-SPL) bis zu 10 nm kleine Strukturen schreiben, indem eine heiße Nadel in die Resistschicht taucht und diese an der Stelle verdampft (siehe u.a. AR NEWS, 42. Ausgabe). Mittlerweile sind weltweit über 40 NanoFrazor-Geräte installiert, und die meisten Anwender nutzen den hochreinen, stabilen Phoenix 81 (Goldstandard) für ihre Strukturierungen.

Die Anwendungsmöglichkeiten hierbei sind vielfältig, wie einige von Herrn Dr. Felix Holzner und Herrn Samuel Bisig (Heidelberg Instruments Nano) freundlicherweise zur Verfügung gestellte Beispiele zeigen.

Säulen, die durch t-SPL in Phoenix 81 geschrieben und unter Verwendung eines Hartmaskenstapels und Ionenstrahlätzen in 20 nm Au geätzt wurden.

Seitenelektroden auf einem markierungslosen Overlay aus Nanodraht unter Verwendung von t-SPL in Phoenix 81.

Einzelelektronentransistoren bei Raumtemperatur, hergestellt durch t-SPL (Nanomerkmale) und direkte Lasersublimation (Mikromerkmale) von Phoenix 81 und Ätzen in Si.

7-nm-Lücke aus t-SPL und einem zweilagigen Lift-Off mit Phoenix 81 und PMMA-co-MA (AR-P 617)

Diese dokumentierte Vielfalt des Phoenix 81 hat uns veranlasst, ihn zum Resist des Monats zu wählen.

Weitere Informationen finden Sie bei uns auf der Homepage und unter https://heidelberg-instruments.com/.