Viele Anwender nutzen mittlerweile die Leitfähigkeit der Electra-Schichten für ihre Prozesse und Technolgien. Seit der Einführung in den Markt 2018 wurden die Synthese und die Aufarbeitung von Electra stetig verbessert. Es gelang z.B., die Leitfähigkeit im Zeitraum von 2018 bis 2020 um den Faktor 5 zu erhöhen.
Für die Herstellung galvanischer Bauteile ist der SU-8 wegen seine exzellenten Strukturgüte prinzipiell geeignet. Jedoch spricht die außerordentlich schwierige Entfernung der Resiststrukturen nach der Galvanik gegen einen Einsatz.
Mittlerweile hat sich der CSAR 62 weltweit etabliert und die Nachfrage steigt immer weiter. Da wir das Polymer selber herstellen, mussten wir ein Skaling Up der Synthese vornehmen. Nach der Optimierung der Synthesebedingungen wagten wir den Schritt in unseren 200-Liter-Synthesereaktor.
Die Entwicklungsarbeiten an unserem neuen Photoresist Atlas 46 wurden fortgeführt. Anhand eigener Ergebnisse oder durch Hinweise und Wünsche der Anwender wurde die Rezeptur und die Eigenschaften verbessert.
In Zusammenarbeit mit dem Förderverein Centrum für intelligente Sensorik (CiS, Erfurt) entwickelten wir 2004 den ersten Bottomresist (BR). Dieser Bottom-Resist ist nicht lichtempfindlich, jedoch wässrig alkalisch entwickelbar.
Optisch dichte Resists spielen in der Industrie eine zunehmend größere Rolle. In der optischen Industrie, der Automobil-Industrie und bei der Drehgeber-Herstellung werden sogenannte Schwarzlacke benötigt.
Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.
Allresist hat Phoenix 81 (AR-P 8100) in einem Eurostar-Projekt zusammen mit der Swisslitho AG und anderen Partnern entwickelt. Swisslitho hat jetzt den NanoFrazor mit einem Laser-Direktschreiber ergänzt (siehe Abb. 1). Nunmehr ist es möglich, komplizierte Strukturen wie z.B. Single-Elektronen-Transistoren (SET) kostengünstig herzustellen. Die SET bestehen aus sehr kleinen Strukturen von wenigen Nanometern und relativ großen Details mit einigen 10 µm (siehe Abb. 2).
Allresist ist es gelungen, eine Alternative zum HSQ zu entwickeln. Durch eine neue Modifikation des Polymers lässt sich der Resist Medusa sehr einfach handhaben.
Unserem Forschungsteam ist es in diesem Jahr gelungen, einen Negativresist hoher Auflösung und Plasmaätzstabilität in Sauerstoff zu entwickeln. Bereits mit den ersten Mustern gelang es die Eigenschaften des HSQ zu erreichen.