Medusa 84 Proben wurden 3,5 Monate bei −30 °C, bei 0 °C und bei Raumtemperatur gelagert. Erstaunlicherweise gab es kaum einen Unterschied zwischen den drei Lagerbedingungen. Unabhängig von der Lagertemperatur wiesen alle Proben eine minimale Linienbreite zwischen 3,6 und 4,2 nm auf.
Allresist bietet künftig umweltfreundlicheren Remover an: der neue AR 300-77 basiert auf Carbonat-Lösemittel und ist besonders effizient, sogar besser als die NEP-Remover, für novolak-basierte Resists geeignet.
Aufgrund der ausgezeichneten Stabilität können wir nun die Haltbarkeit von Electra 94 auf zwei Jahre ausdehnen. Die weitere Durchführung kontinuierlicher Qualitätskontrollen wird Aufschluss darüber geben, ob eine Verlängerung der Haltbarkeit über zwei Jahre hinaus möglich ist.
Allresist bietet künftig einsatzfähige Resists als Ersatz für HSQ in drei unterschiedlichen Schichtdicken an: 50 nm (4.000 rpm, 4 % Feststoff), 100 nm (4.000 rpm, 8 % Feststoff), 400 nm (4.000 rpm, 22 % Feststoff) → 1,0 µm /800 rpm
Durch eine gezielte Syntheseführung, die genau die stabile und empfindliche Molekülfraktion des HSQ-Polymers separiert, und durch aufwändige Reinigungsoperationen können wir hier nun einen deutlich stabileren Resist anbieten.
Am AMOLF wurde Electra 92 auf HSQ beschichtet, welches auf eine 40 nm dicke SiO2-Schicht eines Siliziumwafers aufgebracht war. Aufgrund seiner stark hydrophoben Oberfläche ist HSQ besonders anspruchsvoll. Für diese Aufgabe war eine speziell angepasste Variante des Electra 92 erforderlich.
Da Medusa 84 SiH, im Gegensatz zu Medusa 82 aus rein anorganischen Komponenten besteht, ist seine optische Transparenz deutlich höher. Diese Transparenz ist für eine größere Kundengruppe wichtig, die solche Resists für optische Anwendungen nutzen.
Aufgrund der großen Absatzmenge ist der AR-P 672.045 unser interner „Marktführer“. Dieser Resist wird von drei großen Mikrochip-Herstellern in Frankreich, Deutschland und China eingesetzt. Damit erhöht sich der Verbrauch stetig; mittlerweile werden jährlich über 300 Liter allein von diesem Resist bestellt.
Von Anfang an war der Gedanke der Nachhaltigkeit fest in der Firmenphilosophie der Allresist verankert. Eine der ersten Weiterentwicklung des jungen Unternehmens war der Austausch der teratogenen Lösemittel des Positiv-Photoresists AR-P 351 durch Safer Solvents. So entstand der Standardresist AR-P 3510, bei dem die exzellenten lithographischen Eigenschaften beibehalten wurden, der Lack aber für die Anwender nun bedeutend ungefährlicher war.
Wir haben nun eine Qualität der Anilin-Polymere erreicht, bei der auf den Zusatz von Isopropanol verzichtet werden kann. Dadurch erhöht sich auch die Stabilität der Resistmischungen des AR-PC 5092. Langzeitversuche belegen, dass die Lagerstabilität deutlich höher ist als bei den bisherigen Electra-Varianten.