Juli 2021: Car 44 für galvanische Abformunngen

Für die Herstellung galvanischer Bauteilen ist der SU-8 wegen seine exzellenten Strukturgüte prinzipiell geeignet. Jedoch spricht die außerordentlich schwierige Entfernung der Resiststrukturen nach der Galvanik gegen einen Einsatz.

April 2021: CSAR 62 – weltweit begehrt

Mittlerweile hat sich der CSAR 62 weltweit etabliert und die Nachfrage steigt immer weiter. Da wir das Polymer selber herstellen, mussten wir ein Skaling Up der Synthese vornehmen. Nach der Optimierung der Synthesebedingungen wagten wir den Schritt in unseren 200-Liter-Synthesereaktor.

Januar 2021: Optimierter Prozess für den Negativ-Photoresist Atlas 46

Die Entwicklungsarbeiten an unserem neuen Photoresist Atlas 46 wurden fortgeführt. Anhand eigener Ergebnisse oder durch Hinweise und Wünsche der Anwender wurde die Rezeptur und die Eigenschaften verbessert.

Juli 2020: Bottom-Resist AR-BR 5400, das „Arbeitspferd“ für Zweilagenprozesse

In Zusammenarbeit mit dem Förderverein Centrum für intelligente Sensorik (CiS, Erfurt) entwickelten wir 2004 den ersten Bottomresist (BR). Dieser Bottom-Resist ist nicht lichtempfindlich, jedoch wässrig alkalisch entwickelbar.

Januar 2020: Schwarzlack SX AR-N 8355/7

Optisch dichte Resists spielen in der Industrie eine zunehmend größere Rolle. In der optischen Industrie, der Automobil-Industrie und bei der Drehgeber-Herstellung werden sogenannte Schwarzlacke benötigt.

Oktober 2019: Medusa 82 UV

Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.

April 2019: Phoenix 81

Allresist hat Phoenix 81 (AR-P 8100) in einem Eurostar-Projekt zusammen mit der Swisslitho AG und anderen Partnern entwickelt. Swisslitho hat jetzt den NanoFrazor mit einem Laser-Direktschreiber ergänzt (siehe Abb. 1). Nunmehr ist es möglich, komplizierte Strukturen wie z.B. Single-Elektronen-Transistoren (SET) kostengünstig herzustellen. Die SET bestehen aus sehr kleinen Strukturen von wenigen Nanometern und relativ großen Details mit einigen 10 µm (siehe Abb. 2).

Oktober 2018: Medusa 82 – Stabiler und empfindlicher als der HSQ

Allresist ist es gelungen, eine Alternative zum HSQ zu entwickeln. Durch eine neue Modifikation des Polymers lässt sich der Resist Medusa sehr einfach handhaben.

Juli 2018: Medusa 82 – die Alternative zum HSQ-Resist

Unserem Forschungsteam ist es in diesem Jahr gelungen, einen Negativresist hoher Auflösung und Plasmaätzstabilität in Sauerstoff zu entwickeln. Bereits mit den ersten Mustern gelang es die Eigenschaften des HSQ zu erreichen.

April 2018: Fluoreszierende Negativ-Photoresists Atlas 46 S

Für die Herstellung optischer Skalierungen, wie z.B. bei Nachtsichtgeräten, bedient man sich der faszinierenden Möglichkeiten der Fluoreszenz. Dafür haben wir unseren Atlas 46 mit verschiedenen Fluoreszenzfarbstoffen zu versetzt.