Resist des Monats Juli 2020: Bottom-Resist AR-BR 5400, das „Arbeitspferd“ für Zweilagenprozesse

In Zusammenarbeit mit dem Förderverein Centrum für intelligente Sensorik (CiS, Erfurt) entwickelten wir 2004 den ersten Bottomresist (BR). Dieser Bottom-Resist ist nicht lichtempfindlich, jedoch wässrig alkalisch entwickelbar.

Auf die Bottomschicht wird dann ein „normaler“ Photoresist aufgeschleudert. Die Eigenschaften des BR sind so konzipiert, dass beim Beschichten mit dem Photoresist ein Anlösen der BR-Schicht vermieden wird. Der Photoresist wird im Folgenden belichtet und entwickelt. Nach dessen Durchentwicklung greift der Entwickler den Bottomresist an und löst ihn isotrop. In Abhängigkeit von der Entwicklungsdauer kommt es zur Ausbildung eines mehr oder weniger großen Unterschnitts – derartige Strukturen sind exzellent für Lift-off-Prozesse geeignet.

Abb. 1 Unterschiedliche Tiefen des Unterschnittes eines Zweilagensystems mit dem Bottomresist AR-BR 5400

Mittlerweile sind mehr als ein Dutzend unterschiedlicher Bottomresists kommerziell erhältlich. Für viele große Kunden haben wir die Lacke auf die jeweilige Technologie punktgenau angepasst. Im Jahr 2019 wurden erstmals mehr als 1.000 Liter dieser Bottomresists hergestellt.

Wenn Sie, verehrter Leser, ebenfalls einen solchen Resist für Ihre Anwendungen suchen, wird sich aus dem vorhandenen Portfolio sicher ein geeigneter Lack finden lassen.

Die hohe Akzeptanz und Nützlichkeit für unsere Kunden war Grund genug für uns, die AR-BR 5400-Resists zum Resist des Monats zu küren.