Fast alle Photoresists beinhalten als Lösemittel PMA (PGMEA). Dieses Lösemittel ist deshalb auch der gebräuchlichste Verdünner und wird von uns unter der Bezeichnung AR 300-12 angeboten. Das PMA wird häufig auch zur Randwulstentfernung eingesetzt (→ Beseitigung bzw. Minimierung der Randwulst beim Beschichten).

Jeder Resist kann über die Variation der Schleudergeschwindigkeit nur einen gewissen Schichtdickenbereich abdecken (siehe Beschichten). Sollen dünnere Schichten mit dem Lack erzielt werden, als die höchste Drehzahl beschichten kann, besteht die Möglichkeit zur Verdünnung des Resists. Dazu sind unbedingt nur die empfohlenen Verdünner zu verwenden.

Das folgende Diagramm zeigt in etwa das Verhältnis zwischen Schichtdicke und Feststoffgehalt (Abb. 12). Bei der Verdünnung ist immer der Resist vorzulegen und der Verdünner vorsichtig unter Rühren zuzugeben. Wird der Lack in den Verdünner gegossen, kann es aufgrund der extremen Verdünnung bei den ersten Tropfen zu Ausfällungen (Lösemittelschock) kommen. Nach der Verdünnung sollte eine Feinfiltration erfolgen, da sonst Partikel bei der Beschichtung stören könnten.

Abbildung: Einfluss des Feststoffgehaltes im Resist auf die Schichtdicke.

Die einzelnen Resisttypen unterscheiden sich dabei geringfügig, insofern ist es nur eine Abschätzung. Um z.B. einen Lack mit einem Feststoffgehalt von 33 % von 2,0 µm auf eine Schichtdicke von 0,5 µm zu bringen, muss ein Feststoffgehalt von ca. 17 % eingestellt werden. In diesem Fall wäre es eine Verdünnung von 1 Teil Resist mit einem Teil Verdünner.

Bei der Verdünnung von Lacken muss berücksichtigt werden, dass Zusatzstoffe wie Tenside (bei allen Resists), Farbstoffe (z.B. AR-P 3840) oder Haftvermittler (z.B. AR-P 3110) natürlich auch verdünnt werden. Das hat bei den Farbstoffen und Haftvermittlern kaum Auswirkungen, da der prozentuale Anteil bezogen auf den Feststoff erhalten bleibt. Beim Tensid kann aber eine sehr starke Verdünnung dazu führen, dass die Oberflächenglättende Wirkung nachlässt und eine Radialstreifigkeit auftreten kann.