Für einige Anwendungen sind universelle Entwickler, d.h. Entwickler die sich für mehrere Resistfamilien gleichzeitig gut eignen, von Vorteil. Mehrlagige Systeme können dadurch in einem Schritt entwickelt werden, ein Wechsel des Entwicklers ist nicht mehr nötig.
AR-P 617, Schichtdicke: ~1µm, SB 10 Minuten bei 200°C, 50kV, Dosisstaffel, Abhängigkeit der Empfindlichkeit vom Entwicklersystem und der Entwicklungsdauer bei 21.5°C, Stopper: IPA.
Der experimentelle Spezialentwickler X AR 600-50/4 eignet sich sowohl für die Entwicklung von AR-P 617 als auch für CSAR 62 und 950k PMMA und kann daher als universeller Entwickler für 2- oder 3-Lagenprozesse verwendet werden, z.B. speziell für die Fabrikation von T-Gates. Die Empfindlichkeit kann auch hier über die Dauer der Entwicklung gesteuert werden. Der Dunkelabtrag, der zur Erzeugung unterschnittener Strukturen Vorteile bringt, ist moderat und gut steuerbar. Nach dreiminütiger Entwicklungszeit beträgt die Dose to clear nur etwa 30 µC/cm2. X AR 600-50/4 ist im Vergleich zum Standardentwickler AR 600-50 (Dose to clear ~ 50 µC/cm2) deutlich empfindlicher. Der Spezialentwickler X AR 600-50/3 ist im Vergleich zum Standardentwickler AR 600-50 ebenfalls deutlich empfindlicher, die Dose to clear beträgt etwa 36 µC/cm2. Der auftretende Dunkelabtrag von knapp 10% kann genutzt werden, um einen besonders gut ausgeprägten Unterschnitt auszubilden. Die Herstellung unterschnittener Strukturen ist besonders im Fall einer Bestrahlung bei 100kV oft schwierig, da die dafür notwendige Rückstreuung (Proximityeffekt) kaum auftritt. Da mit dem Entwickler X AR 600-50/3 auch nicht bzw. nur schwach bestrahlte Bereiche entwickelt werden können, ist dennoch die Erzeugung von lift-off Strukturen einfach möglich (siehe Bild rechts):
2-Lagensystem AR-P 617 (bottom, SB 200°C) / CSAR 62 (top, SB 180°C), 100kV, Entwickler 1. AR 600-546 (CSAR 62) und 2. AR 600-50 für AR-P 617 (bottom Schicht, links) bzw. X AR 600-50/3 (bottom Schicht, rechts); Quelle: Tine Greibe, DTU Danship, Dänemark.
Der experimentelle Spezialentwickler X AR 600-55/1 eignet sich sowohl für die Entwicklung von AR-P 617 als auch für PMMA und kann daher als universeller Entwickler für 2- oder 3-Lagenprozesse verwendet werden, z.B. speziell für die Fabrikation von T-Gates. Die Empfindlichkeit kann auch hier über die Dauer der Entwicklung gesteuert werden. Innerhalb einer Entwicklungszeit von 3 Minuten konnte kein signifikanter Dunkelabtrag beobachtet werden. Die Ausprägung des Unterschnitts kann daher sehr gut über die Bestrahlungsdosis gesteuert werden.
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