Wässrig basische Entwickler unterliegen einer Alterung durch CO2-Aufnahme aus der Luft. Die gepufferten wässrig alkalischen Entwickler (AR 300-26, AR 300-35) sind dabei stabiler als die TMAH-haltigen Entwickler der Serie AR 300-40. Innerhalb der Serie sind die mit der geringsten TMAH Konzentration am anfälligsten. TMAH-Entwickler einer 0,1 normalen Konzentration (AR 300-49) verändern das Entwicklungsverhalten in einem offenen Gefäß schon nach 3 – 4 Stunden. Geöffnete Gebinde sollten nach der Entwicklerentnahme sofort luftdicht verschlossen und umgehend verbraucht werden. Die Herstellung von Entwicklerverdünnungen sollte unmittelbar vor Gebrauch erfolgen.
Bei den lösemittelhaltigen Entwicklern für E-Beam Resists kann häufiges Öffnen des Gebindes zur Verdunstung und damit zur Änderung der Zusammensetzung des Entwicklers führen. Ein verändertes Entwicklungsverhalten kann die Folge sein, deshalb sind auch diese Entwickler stets gut verschlossen aufzubewahren.
Natürlich altern (verbrauchen) sich die Entwickler bei der Tauchentwicklung mit der steigenden Anzahl der prozessierten Wafer. Wieviel Wafer in einem Bad entwickelt werden können, hängt von der Größe des Bades, der Menge an belichtetem Resist pro Wafer, der Anzahl der Wafer und den Standzeiten ab. Spätestens wenn sich die Entwicklungszeiten um 20 % verlängern im Vergleich zum Beginn, sollte der Entwickler gewechselt werden.
Prozesschemikalien Entwickler