Empfindliche Substrate können gegen Beschädigungen beim Handling, besonders bei der doppelseitigen Prozessierung, mittels des Schutzlacks SX AR-PC 5000/3.1 geschützt werden. Der novolakbasierte Resist wird durch Spincoating aufgebracht und getempert. Nach dem Handling kann der Lack leicht mit üblichen Removern entfernt werden.
Photoresist Schutzlack