Der neue, stark isolierend wirkende Schutzlack SX AR-PC 5060 F-Protect ist eine gute Alternative zum bekannten Resist Cytop®.
Der Resist besteht aus einem perfluorierten amorphen Copolymer, gelöst in einem Lösungsmittelgemisch aus Perfluortri-n-butylamin und Perfluor-n-dibutylmethylamin (Fluorinert™ FC-40). Die Resistschichten zeichnen sich durch einen niedrigen Brechungsindex, eine sehr hohe optische Transparenz, hervoragende isolierende Eigenschaften sowie eine ausgezeichnete Stabilität gegenüber Lösungsmitteln und Ätzmedien aus. Insbesondere die sehr guten isolierenden Eigenschaften und die hohe thermische Stabilität, die Zersetzung des Polymers setzt erst oberhalb von etwa 350°C ein, sind entscheidende Eigenschaften für eine Verwendung für organische Feld-Effekt-Transistoren.
Abb. 1: Schematischer Aufbau eines organischen Feld-Effekt-Transistors (OFET) mit SX AR‑PC 5060
Abb. 2: charakteristische Kennkurven eines OFET, Topgate basiert auf TIPS-Pentacene mit SX AR‑PC 5060 als isolierende Schicht; stabil bis VGS=-160 V.
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