Medusa 82 Post-Exposure-Bake Einfluss (PEB)

Ein Zusatz von Photoacidgenerator (PAG) kann die Empfindlichkeit von Medusa 82 erheblich steigern (siehe Resist-Wiki Medusa 82 mit PAG). Eine weitere Möglichkeit besteht darin, nach der E-Beam-Belichtung einen PEB durchzuführen. Selbst nach mehrtägiger Lagerzeit der Substrate kann die Empfindlichkeit in Abhängigkeit von der Temperatur und Dauer des PEB deutlich gesteigert werden.

Gradationskurven nach einem PEB mit unterschiedlichen Entwicklern

Als Entwickler wurden 0.20 und 0.26n TMAH Lösungen verwendet. Je höher die gewählte PEB-Temperatur desto höher ist auch die Empfindlichkeit. Weiterhin nimmt der Kontrast durch den PEB zu.

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