Fluoreszierende Resiststrukturen E-Beam-Resists

Fluoreszenz ist die spontane Emission von Licht kurz nach der Anregung eines Materials durch elektronische Übergänge. Dabei ist das emittierte Licht in der Regel energieärmer als das vorher absorbierte.

Abbildung 1: Absorptions- und Emissionsspektrum

In der Abbildung 1 sieht man, dass die Fluoreszenz (Emission) langwelliger (energieärmer) ist als die Anregung durch die Absorption. Das zeigt sich bei den Resiststrukturen der neuen fluoreszierenden E-Beamresist sehr schön. Zur Herstellung der neuen Lacke wurden sowohl PMMA- als auch CSAR 62-Polymere in einem Lösemittelgemisch angesetzt, das auch die Fluoreszenz-Farbstoffe in einem ausreichenden Maße löste. Diese Resists wurden dann bei der Präzisionsoptik Gera GmbH mittels Elektronenstrahl-Lithographie bestrahlt und entwickelt. Die Strukturen ließen sich in einem hierfür optimierten Entwickler rückstandsfrei erzeugen. Werden sie, wie auf den beiden Bildern gezeigt, mit einem UV-Licht angeregt, beginnen sie stark zu leuchten.

Abbildung 2: Fluoreszierende PMMA-Strukturen gelb-grün

Abbildung 3: Fluoreszierende PMMA-Strukturen rot

Aufgrund der Eigenschaften dieser E-Beamresists sind Auflösungen bis in den Bereich von 10 – 20 nm möglich. Der Schwerpunkt der Anwendungen liegt in der optischen Industrie, so werden z.B. diese Materialien für Nachtsichtgeräte benötigt.

Farbenresist-Poster-2017

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