Im Rahmen des Eurostar-Projekts PPA-Litho „Entwicklung und Herstellung von Resists auf der Basis von strukturoptimierten Polyphthalaldehyden für erweiterte Lithographie-Anwendungen“ evaluiert Allresist in Kooperation mit der Firma Aglycon, dem Joanneum in Weiz und der SwissLitho AG in Zürich neuartige, hochwertige Resists auf der Basis von Polyphthalaldehyd (PPA).
Die entscheidende Besonderheit PPA basierter Resists beruht auf der Möglichkeit zur Trockenentwicklung, d.h. eine Strukturierung gelingt ohne den Einsatz der sonst üblichen organischen- bzw. wässrig-alkalischen Entwicklerlösungen. Polyphthalaldehyd ist bei Raum-temperatur metastabil, zersetzt sich jedoch bei intensivem Erwärmen schlagartig in leichtflüchtige, gesundheitlich unbedenkliche Bestandteile. Eine Strukturierung der PPA-Schichten gelingt entweder durch Direct-Laser-Writing oder durch die Thermal Probe Nanolithography. In beiden Verfahren wird die thermische Labilität der Polymere ausgenutzt. Durch einen Wärmeeintrag mit einer hoch erhitzten Nadel (NanoFrazor, SwissLitho) oder durch die freigesetzte Energie beim Laser-direktschreiben verdampft die PPA-Schicht schlagartig und wird so direkt strukturiert. Bei dem NanoFrazor-Verfahren konnten bisher Strukturen bis zu einer Auflösung von 10 nm realisiert werden.
Abb. Einsatzbereites NanoFrazor-Gerät (Kosten ca. 500 T€)
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