Eine Strukturierung des leitfähigen Schutzlackes Electra 92 ist in einem gewissen Umfang für Strukturen > 5 µm möglich. Dazu wird folgendes Verfahren verwendet:
Auf dem Substrat wird ein Negativ-Resist (z.B. AR-N 4340) beschichtet (Schichtdicke > 2 µm), belichtet und entwickelt. Durch eine möglichst geringe Dosis sollte sich ein kleiner Unterschnitt ausbilden, der das spätere Liften unterstützt. Auf diese Strukturen wird Electra 92 (AR-PC 5091) beschichtet. Durch eine Optimierung der Schleudergeschwindigkeit können dünne (50 – 200 nm), qualitativ gute Electra-Schichten erzielt werden. Electra bedeckt sowohl die Substratoberfläche als auch die Resiststrukturen. Durch den Unterschnitt können die Strukturen trotzdem geliftet werden. Durch ein vorsichtiges Spülen mit Aceton, ggf. mit leichter Ultraschall-Unterstützung, werden die Negativresist-Strukturen entfernt (geliftet), Electra 92 bleibt unverändert stehen. Am Rand der Electra-Strukturen kann es zu geringen Schichterhöhungen kommen, diese sollten jedoch nicht stören. Mit diesem Verfahren kann man direkt leitfähige Muster herstellen.
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