Die Neuentwicklung ATLAS 46 konnte auch erfolgreich für Nanoimprinting eingesetzt werden (Universität Wuppertal, AG Prof. Scheer). In einem ersten Schritt wurden mit dem negativ arbeitenden Resist ATLAS 46S Nanostrukturen hergestellt, die anschließend mit UV-Licht bei einer Wellenlänge von 172nm gehärtet wurden. Der nachfolgende Imprintschritt ergibt dann die gewünschte hierarchische Architektur.
Nanostrukturen-Imprinting
- (a) Realisierung definierter Nanostrukturen durch thermisches Imprinting
- (b) Stabilisierung der vorstrukturierten Oberfläche durch tief-UV-Belichtung
- (c) Zweiter Imprintschritt zur Erzeugung der hierarchischen Architektur
Für diese spezielle Anwendung wurden unterschiedliche Resists evaluiert:
Evaluierung unterschiedlicher negativer Photoresists für Doppel-Imprint-Lithografie
SU 8 und ATLAS-Resists zeigen ähnlich gute Ergebnisse, definierte und sehr gleichmäßige Strukturen konnten erzeugt werden, während CAR44 nicht über die für diesen Prozess notwendige thermische Stabilität verfügt. Der große Vorteil des Atlas Resists ist die leichte Entfernbarkeit der R-Variante.
Photoresist Andere Resists