Auch in Photoresists können fluoreszierende Farbstoffe eingebettet werden, dabei sind die negativen Photoresists von besonderem Interesse. Die Verwendung unterschiedlicher Dyes erlaubt eine definiert einstellbare Emission in variablen Wellenlängenbereichen. Durch Einbettung in den negativ arbeitenden Atlas 46 S konnten Resistschichten erzeugt werden, die wahlweise eine violette, blaue, gelbe, orange oder rote Fluoreszenz zeigen. Die Farbstoffe sind stabil, die Strukturierung erfolgt genauso wie im Standardprozess mit ungefärbten Atlas 46 S.
Die intensive Fluoreszenz bleibt auch nach Tempern bei 150°C erhalten, die intensive UV-Belichtung zur Vernetzung von Atlas hatte auch keinen nachteiligen Einfluss auf die Emmissionseigenschaften der Schichten.
Abb. 1-2: Unterschiedlich fluoreszierende Atlas 46 – Schichten (Bestrahlung mit Schwarzlicht)
Auch zweifarbig fluoreszierende Architekturen können realisiert werden. Dafür wurden Glasscheiben zunächst mit AR 300-80neu behandelt und anschließend mit unterschiedlich fluoreszierenden Atlas 46 S – Varianten beschichtet (1000rpm, 90s, SB 65°C für 10 Minuten). Anschließend wurde belichtet (Flutbelichtung, 4 Minuten) wobei unterschiedliche Masken eingesetzt wurden („AR-Logo“-klein als positive und negative Maske). Nach anschließendem 3 Minuten PEB bei 105°C – 110°C wurde in PMA entwickelt (DEZ ca. 10 – 15s; Schichten aber auch noch nach 30 – 60s stabil) und trocken gepustet. Die erfolgreich realisierten, vollständig entwickelten Strukturen wurden anschließend mit einer weiteren Resistschicht beschichtet (750rpm, 2 Minuten, SB 10min bei 65°C), dafür wurde ein möglichst großer Farbkontrast angestrebt (z.B. blau – gelb oder auch rot-gelb). Es trat keine Durchmischung auf, die bereits erzeugten Strukturen sind stabil. Der zweite Belichtungsschritt (sowie PEB analog zum ersten Schritt) erlaubte die Strukturierung der oberen Schicht (für AR-Logo wurden inverse Masken benutzt), nach der Entwicklung mit PMA werden die unterschiedlich fluoreszierenden Areale auf dem Substrat im Schwarzlicht sichtbar:
Abb. 3-6: Realisiertes AR-Logo mit zweifarbiger Emission im Schwarzlicht
Auch unterschiedlich fluoreszierende Linien können auf gleichem Weg nebeneinander erzeugt werden:
Abb. 7-8: Verschieden fluoreszierendes Linienmuster und Strukturen
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