Die Strukturen es Image Reversal Resist AR-U 4060 zeigen nach einer Flutbelichtung und einer anschließenden Temperung eine erhöhte Beständigkeit gegenüber Lösemitteln. Ethanol und Toluol greifen normale Positiv-Resistschichten schnell an und lösen sie in kurzer Zeit. Wird der AR-U 4060 nach der Strukturierung flutbelichtet (2 Minuten) und bei 110 °C getempert, bleiben die Strukturen über einige Stunden stabil, bei einer Temperung von 120 °C sogar über Nacht. Diesen Effekt erreicht man beim Ethanol durch eine 5 minütige Flutbelichtung und einer Temperung bei 150 °C. Die Oberfläche bleibt über Nacht unbeschadet. Das Removing gelingt danach mit dem Remover AR 300-73.
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