Resist des Monats April 2017: Thermisch entwickelbarer Positivresist Phoenix 81

Das Eurostar Projekt „PPA-Litho“ wird in diesem Jahr erfolgreich abgeschlossen. Ziel war es, Polyphthalaldehyde (PPA) zu synthetisieren, die für eine thermische Strukturierung mittels NanoFrazor geeignet sind (siehe AR NEWS 32. und 33.) Die Eigenschaften und die Qualität sind mittlerweile so ausgereift, dass Resist-Muster konzipiert werden können. Diese thermisch strukturierbaren Resists werden unter der Bezeichnung AR-P 8100 angeboten. Entsprechend der Anwendung im NanoFrazor werden hauptsächlich kleine Gebinde-Größen von 10 und 30 ml hergestellt.

Aber die Polyphthalaldehyde eignen sich ebenso für die Elektronenstrahllithographie und wie auch für die Herstellung von 200 nm dicken Fäden (Electro spinning). Ein Material aus diesen Fäden verdampft augenblicklich, wenn man es erhitzt. Es ergeben sich interessante Anwendungsmöglichkeiten. Der Produktname Phoenix leitet sich aus dieser Eigenschaft ab, der Vogel stirbt und wird zu Asche. Im Gegensatz zur Mythologie kann aus den verdampften Resistresten kein neuer Lack entstehen.

Diese hochinteressante Produktentwicklung „Phoenix 81“ hat uns bewogen, sie als Resist des Monats vorzustellen.

16nm-Linie-AR-P8100

16 nm Linie mittels E-Beamlithographie AR-P 8100

Electro-Spinning-AR-P8100

Electro spinning

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