Unserem Forschungsteam ist es in diesem Jahr gelungen, einen Negativresist hoher Auflösung und Plasmaätzstabilität in Sauerstoff zu entwickeln. Bereits mit den ersten Mustern gelang es die Eigenschaften des HSQ zu erreichen.

Hierfür wurden Eignungstests in der Raith GmbH durchgeführt. Dabei lag die Flächendosis bei ca. 1.250 µC/cm² (30 kV) und die Auflösung der Stege betrug 11 nm. Die Entwicklung erfolgte wässrig alkalisch mit einer starken TMAH-Lösung. Noch höhere Auflösungen sind mit speziell angepassten Entwicklern möglich.

Hochauflösungstest mit Medusa 82 (SX AR-N 8200.03/1), Raith GmbH

Weitere Versuche zeigten eine gegenüber dem HSQ verbesserte Prozessstabilität und auch höhere Lagerstabilität.

Die Forschungsarbeiten an Medusa 82 werden im Rahmen eines wissenschaftlichen Projektes fortgesetzt und die Ergebnisse auf der MNE 2018 (Kopenhagen 24. – 27. September) auf unserem Stand und in einem Vortrag vorgestellt.

In Kürze können Sie bereits erste Muster bestellen.