Bisher konnten Strukturierungen mit einer Belichtungs-Wellenlänge > 500 nm aufgrund der geringen Empfindlichkeit der Photoresists nicht realisiert werden. Untersuchungen mittels Laser-Direktschreibens bei 532 nm und bei 1060 nm haben nachgewiesen, dass Strukturen durch die Verwendung spezieller Farbstoffe bei diesen Wellenlängen erzeugt werden können. Durch die thermische Wechselwirkung des Laserstrahles mit dem eingefärbten Negativresist wird die Vernetzung induziert. Anschließend können ganz normal mit einem wässrig-alkalischen Entwickler die Strukturen entwickelt werden.

Die Auflösung wird durch die Stärke des Laser-Strahles bestimmt. Für die Vernetzung bei 532 nm wird eine relativ geringe Pulsenergie für einen kompletten 4-µm-Schichtaufbau benötigt. Diese äußerst interessante Entwicklung, die den Weg zu neuen Applikationen eröffnet, war uns Anlass genug, den neuen Lack zum Resist des Monats zu machen. Wir bitten unsere Partner und Kunden, sich bei Interesse zu melden und das Projekt zu begleiten.