SX AR-P 7100 – ein vielseitig einsetzbarer silylierbarer Resist

Obwohl die Entwicklungsarbeiten noch laufen, möchten wir die Resists der Serie SX AR-P 7100 schon jetzt dem Fachpublikum vorstellen. Die gewünschten Eigenschaften lassen sich durch eine anschließende Silylierung einstellen. Dabei können sowohl eine Gasphasen- als auch eine Flüssigsilyierung genutzt werden.

1. Lösemittel entwickelbarer Resist
Einige Anwender können ihre empfindlichen Substrate nicht mit wässrig-alkalischen Entwicklern behandeln. Hierfür steht jetzt folgende Technologie zur Verfügung: Nach der bildmäßigen Belichtung wird die Resistschicht silyliert. In die belichteten Flächen dringt die siliziumhaltige Komponente ein und macht diese gegen Lösemittelgemische unlöslich. Der nicht belichtete Teil wird hingegen schnell gelöst. So kann das Substrat schonend entwickelt werden.

2. Lösemittel- und laugenstabile Strukturen
Nach der normalen Entwicklung werden die Strukturen flutbelichtet und anschließend silyliert. Es resultiert eine außerordentlich hohe Stabilität gegenüber fast allen Lösemitteln und starken Laugen. Lediglich der AR 300-70 wirkt als Remover. Weitere neue Anwendungen werden geprüft. Die interessanten Resultate veranlassen uns, die neuen SX AR-P 7100 Resists in diesem frühen Stadium zum Resist des Monats Juli zu machen. Interessenten erhalten weitergehende Informationen auf Anfrage.