Mit einem PMMA-Zweilagen-System lassen sich Lift-off-Strukturen einfach realisieren. Um unseren Kunden exakte Prozessparameter zur Verfügung stellen zu können, wurden Untersuchungen an der Martin-Luther-Universität Halle, Institut für Physik, unter Leitung von Herrn Prof. Georg Schmidt durchgeführt. Die Versuche ergaben, dass sich bereits mit den Standardresists 30 nm Metall-Strukturen erzeugen lassen.

Die Abbildungen zeigen die entwickelte Zwei-Lagen-PMMA-Schicht mit definiertem Unterschnitt (oben), die Struktur nach dem Bedampfen mit Metall (Mitte) und die 30-nm-Metallstege nach dem Liften (unten). Ausführlich werden die Ergebnisse in Kürze in den AR NEWS vorgestellt. Interessenten können die Information auf Anfrage schon eher erhalten. Die überzeugenden Resultate veranlassten uns, diese PMMA-Resists zum Resist des Monats zu machen.