Auf der MNE 2015 (Micro and Nano Engineering) in Den Haag stellte Allresist dieses präzise und einfach zu handhabende Zweilagen-System mit großem Erfolg vor.

Immer mehr Elektronenstrahlanwendungen werden auf isolierenden Substraten wie Glas, Quarz, Saphir oder Kunststoffen durchgeführt. Beim Schreiben mit dem Elektronenstrahl können die entstehenden Aufladungen nicht abgeleitet werden, die Strukturen verzeichnen. Durch das Auftragen einer leitfähigen Electra-Schicht auf den E-Beamresist vor der Bestrahlung wird dieses Problem schnell und zuverlässig beseitigt.

Eine besonders hohe Qualität der Strukturen erhält man, wenn die Electra-Schicht auf CSAR 62 aufgetragen wird. Dann vereinen sich die Vorzüge beider Produkte, die exzellente Auflösung und sehr gute Empfindlichkeit des CSAR 62 mit der hohen Leitfähigkeit und der einfachen Handhabung des Electra 92. Hinzu kommen die hohe Prozessstabilität und lange Haltbarkeit.

Auf Glas geschriebene 30 – 150 nm Quadrate des CSAR 62 ohne Verzeichnungen durch Verwendung des AR-PC 5090 (Electra 92)

Das große Interesse an diesen Resists auf dem MNE-Kongress veranlasste uns, die beiden Produkte zu den Resists des Monats zu küren.

PS: Am 4. November 2015 findet in Chemnitz am Fraunhofer Institut ENAS das Chemnitzer Seminar „Elektronenstrahl-Lithographie“ statt. Neben vielen anderen hochkarätigen Vorträgen wird auch Allresist die neusten E-Beamresists Entwicklungen vorstellen.

Mit den AR-NEWS in zwei Wochen verschickt Allresist Einladungen. Interessenten können sich jedoch schon vorab bei Allresist (info@allresist.de) oder Herrn Dr. Jens-Wolfram Erben (jens-wolfram.erben@enas.fraunhofer.de) melden.